| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-14页 |
| 1.1 非线性光学与半导体材料 | 第11-13页 |
| 1.2 论文研究的意义与主要内容 | 第13-14页 |
| 第二章 非线性光学理论 | 第14-27页 |
| 2.1 非线性极化率 | 第14-16页 |
| 2.2 非线性极化率的微观物理起源 | 第16-17页 |
| 2.3 三阶非线性光学效应 | 第17-21页 |
| 2.4 非线性光学参数的测量方法 | 第21-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第三章 Z 扫描理论及实验系统 | 第27-53页 |
| 3.1 透射式Z 扫描技术 | 第27-36页 |
| 3.1.1 透射式Z 扫描技术简介 | 第27-29页 |
| 3.1.2 透射式Z 扫描技术理论基础 | 第29-36页 |
| 3.2 反射式Z 扫描技术 | 第36-38页 |
| 3.2.1 反射式Z 扫描技术简介 | 第36-37页 |
| 3.2.2 反射式Z 扫描技术理论基础 | 第37-38页 |
| 3.3 Z 扫描实验系统介绍 | 第38-52页 |
| 3.3.1 飞秒激光系统 | 第38-40页 |
| 3.3.2 步进电机系统 | 第40-43页 |
| 3.3.3 激光光强探测器 | 第43-44页 |
| 3.3.4 数字锁项放大器与数据采集系统 | 第44-46页 |
| 3.3.5 Z 扫描实验系统主程序 | 第46-49页 |
| 3.3.6 透射式与反射式Z 扫描实验系统 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 氮化铟薄膜的非线性光学特性 | 第53-73页 |
| 4.1 引言 | 第53-55页 |
| 4.2 实验装置与实验样品 | 第55-58页 |
| 4.2.1 实验装置 | 第55页 |
| 4.2.2 实验样品 | 第55-58页 |
| 4.3 热效应、实验样品等对氮化铟薄膜Z 扫描实验的影响 | 第58-60页 |
| 4.3.1 热效应影响的排除 | 第58-59页 |
| 4.3.2 样品非均匀性、衬底、非线性吸收影响的排除 | 第59-60页 |
| 4.4 氮化铟薄膜非线性折射率 | 第60-67页 |
| 4.4.1 氮化铟薄膜变功率透射式与反射式Z 扫描 | 第60-62页 |
| 4.4.2 氮化铟薄膜的饱和效应 | 第62-63页 |
| 4.4.3 氮化铟薄膜三阶级联效应 | 第63-64页 |
| 4.4.4 氮化铟薄膜三阶及五阶非线性折射率 | 第64-67页 |
| 4.5 氮化铟薄膜非线性吸收系数 | 第67-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 第五章 氮化铟薄膜的发光特性 | 第73-84页 |
| 5.1 引言 | 第73-74页 |
| 5.2 实验装置与实验样品 | 第74-77页 |
| 5.2.1 实验装置 | 第74-75页 |
| 5.2.2 实验样品 | 第75-77页 |
| 5.3 氮化铟薄膜光致发光 | 第77-83页 |
| 5.3.1 氮化铟薄膜发光随深度变化关系 | 第77-81页 |
| 5.3.2 氮化铟薄膜发光随样品生长变化关系 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 第六章 总结 | 第84-86页 |
| 6.1 主要结论 | 第84-85页 |
| 6.2 研究展望 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 攻读硕士学位期间已发表的论文 | 第87页 |
| 攻读硕士学位期间获得的奖励 | 第87页 |
