| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 钛合金与钛合金轴 | 第12-16页 |
| 1.2.1 钛合金的分类 | 第12-13页 |
| 1.2.2 钛合金的应用 | 第13-15页 |
| 1.2.3 钛合金轴 | 第15-16页 |
| 1.2.4 钛合金轴在应用中的问题 | 第16页 |
| 1.3 钛合金的表面强化技术 | 第16-19页 |
| 1.3.1 气体氮化与激光气体氮化 | 第17页 |
| 1.3.2 离子束改性 | 第17-18页 |
| 1.3.3 表面氧化处理 | 第18页 |
| 1.3.4 表面纳米处理 | 第18-19页 |
| 1.3.5 表面强化技术存在的问题 | 第19页 |
| 1.4 液相等离子体表面强化技术 | 第19-21页 |
| 1.4.1 等离子体及液相放电等离子体 | 第19-20页 |
| 1.4.2 液相等离子体表面强化技术发展 | 第20页 |
| 1.4.3 钛合金液相等离子体强化 | 第20-21页 |
| 1.5 研究意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 液相等离子体强化系统物理场研究 | 第23-34页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 液相等离子体法的COMSOL有限元分析 | 第23-24页 |
| 2.2.1 直流液相等离子体法有限元分析的意义 | 第23-24页 |
| 2.2.2 COMSOL Multiphysics与多物理场耦合 | 第24页 |
| 2.3 分析模型的建立 | 第24-25页 |
| 2.3.1 简化模型的建立 | 第24-25页 |
| 2.3.2 耦合分析的设置 | 第25页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第25-33页 |
| 2.4.1 系统电场 | 第26-30页 |
| 2.4.2 系统温度场 | 第30-32页 |
| 2.4.3 系统流场 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 钛合金直流液相等离子体强化层的形成机制 | 第34-50页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 强化相形成的热力学分析 | 第34-36页 |
| 3.3 强化层的形成条件 | 第36-41页 |
| 3.3.1 电解液体系 | 第36-38页 |
| 3.3.2 电参数 | 第38-39页 |
| 3.3.3 初始表面状态 | 第39-41页 |
| 3.4 强化处理温度 | 第41-44页 |
| 3.4.1 实验设计 | 第41-42页 |
| 3.4.2 不同电压的试样平均温度 | 第42-43页 |
| 3.4.3 试样温度随时间的变化 | 第43-44页 |
| 3.5 强化层的生长机理 | 第44-49页 |
| 3.5.1 液相等离子体的放电模型 | 第44-46页 |
| 3.5.2 处理过程中的元素的扩散 | 第46-48页 |
| 3.5.3 强化层生长过程 | 第48-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 TC4钛合金轴液相等离子体强化实验研究 | 第50-74页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 实验材料、设备及方案 | 第50-55页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第50-51页 |
| 4.2.2 实验设备 | 第51-52页 |
| 4.2.3 实验流程 | 第52-53页 |
| 4.2.4 实验设计 | 第53页 |
| 4.2.5 检测分析方法 | 第53-55页 |
| 4.3 电压对强化层的影响 | 第55-64页 |
| 4.3.1 强化层的物相 | 第55-57页 |
| 4.3.2 表面形貌与元素 | 第57-59页 |
| 4.3.3 截面组织与元素分布 | 第59-61页 |
| 4.3.4 强化层硬度 | 第61-62页 |
| 4.3.5 强化层的抗磨损性能 | 第62-64页 |
| 4.4 时间对强化层的影响 | 第64-73页 |
| 4.4.1 强化层的物相 | 第64-65页 |
| 4.4.2 表面形貌与元素 | 第65-67页 |
| 4.4.3 截面组织与元素分布 | 第67-69页 |
| 4.4.4 强化层硬度 | 第69-70页 |
| 4.4.5 强化层的抗磨损性能 | 第70-71页 |
| 4.4.6 强化层的电化学性能 | 第71-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 总结与展望 | 第74-77页 |
| 5.1 总结 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第85页 |