| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 课题研究的背景目的及意义 | 第12-14页 |
| 1.1.1 课题研究的背景及意义 | 第12-13页 |
| 1.1.2 课题研究的目的及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 薄膜压力传感器的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 Al_2O_3薄膜的国内外研究现状与发展 | 第16-18页 |
| 1.3.1 Al_2O_3薄膜的国外研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.2 Al_2O_3薄膜的国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 Al_2O_3薄膜性能及其应用 | 第18-20页 |
| 1.5 论文的研究内容 | 第20-23页 |
| 1.5.1 主要关键问题 | 第20页 |
| 1.5.2 主要工作 | 第20-21页 |
| 1.5.3 技术路线 | 第21-23页 |
| 第二章 磁控溅射镀膜原理及Al_2O_3薄膜制备表征方法 | 第23-34页 |
| 2.1 Al_2O_3薄膜溅射原理 | 第23-24页 |
| 2.2 直流、射频溅射原理及Al_2O_3薄膜的镀膜机理 | 第24-26页 |
| 2.2.1 直流磁控溅射薄膜及Al_2O_3薄膜的镀膜机理 | 第24-25页 |
| 2.2.2 射频磁控溅射薄膜及Al_2O_3薄膜的镀膜机理 | 第25-26页 |
| 2.3 磁控溅射镀膜系统 | 第26-27页 |
| 2.4 Al_2O_3薄膜性能要求与试验制备 | 第27-29页 |
| 2.4.1 Al_2O_3薄膜性能要求 | 第27-28页 |
| 2.4.2 Al_2O_3薄膜试验制备 | 第28-29页 |
| 2.5 本文涉及的几种薄膜性能表征方法 | 第29-33页 |
| 2.5.1 薄膜的沉积速率与厚度的测量 | 第29-30页 |
| 2.5.2 薄膜表面粗糙度的测量 | 第30页 |
| 2.5.3 薄膜复合硬度的测量 | 第30-31页 |
| 2.5.4 薄膜物相结构的XRD表征 | 第31-32页 |
| 2.5.5 薄膜表面形貌及成分的表征 | 第32-33页 |
| 2.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 工艺参数对直流、射频沉积Al_2O_3薄膜性能影响分析 | 第34-52页 |
| 3.1 直流工艺参数对沉积Al_2O_3薄膜性能的影响分析 | 第34-42页 |
| 3.1.1 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度与溅射靶功率的关系分析 | 第34-35页 |
| 3.1.2 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度、表面形貌与O_2流量的关系分析 | 第35-38页 |
| 3.1.3 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度与工作气压的关系分析 | 第38-39页 |
| 3.1.4 Al_2O_3薄膜沉积速率与负偏压的关系分析 | 第39-40页 |
| 3.1.5 Al_2O_3薄膜沉积速率与本底真空的关系分析 | 第40-42页 |
| 3.2 射频工艺参数对沉积Al_2O_3薄膜性能的影响分析 | 第42-49页 |
| 3.2.1 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度与溅射靶功率的关系分析 | 第42-44页 |
| 3.2.2 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度、表面形貌与O_2流量的关系分析 | 第44-46页 |
| 3.2.3 Al_2O_3薄膜沉积速率、表面粗糙度与工作气压的关系分析 | 第46-47页 |
| 3.2.4 Al_2O_3薄膜沉积速率与本底真空的关系分析 | 第47-49页 |
| 3.3 Al_2O_3薄膜的XRD物相检测 | 第49-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 直流溅射法与射频溅射法制备薄膜Al_2O_3及结果分析 | 第52-72页 |
| 4.1 Al_2O_3薄膜直流溅射的正交试验设计与分析 | 第52-57页 |
| 4.1.1 制备方案的正交试验及结果表征 | 第52-53页 |
| 4.1.2 正交试验结果的极差分析与方差分析 | 第53-55页 |
| 4.1.3 目标工艺参数选择与薄膜制备 | 第55-57页 |
| 4.2 Al_2O_3薄膜射频溅射的正交试验设计与分析 | 第57-62页 |
| 4.2.1 制备方案的正交试验及结果表征 | 第57-58页 |
| 4.2.2 正交试验结果的极差分析与方差分析 | 第58-61页 |
| 4.2.3 目标工艺参数选择与薄膜制备 | 第61-62页 |
| 4.3 工艺参数对比及Al_2O_3薄膜能谱分析 | 第62-68页 |
| 4.3.1 直流、射频沉积薄膜对比与分析 | 第62-63页 |
| 4.3.2 对样品A的SEM观测与能谱分析 | 第63-66页 |
| 4.3.3 对样品B的SEM观测与能谱分析 | 第66-68页 |
| 4.4 退火工艺对Al_2O_3薄膜晶体结构影响 | 第68-70页 |
| 4.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-75页 |
| 5.1 论文的主要工作 | 第72-73页 |
| 5.2 主要创新点 | 第73页 |
| 5.3 展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
