真空密封透射式微型微束调制X射线源
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 引言 | 第12-17页 |
第二章 调制X射线源的发展历史 | 第17-32页 |
2.1 产生X射线的主要方式 | 第17-21页 |
2.1.1 X射线管 | 第17-18页 |
2.1.2 激光等离子体 | 第18页 |
2.1.3 同步辐射 | 第18-20页 |
2.1.4 X射线激光 | 第20-21页 |
2.2 微型X射线源的发展现状 | 第21-24页 |
2.3 调制X射线源的发展现状 | 第24-32页 |
第三章 调制X射线源的理论研究 | 第32-61页 |
3.1 X射线的特性 | 第32-37页 |
3.1.1 X射线谱 | 第32-34页 |
3.1.2 X射线与物质的相互作用 | 第34-37页 |
3.2 电子发射系统的理论分析 | 第37-44页 |
3.2.1 热电子发射 | 第37-40页 |
3.2.2 场致电子发射 | 第40-43页 |
3.2.3 热电子发射与场致电子发射的比较 | 第43-44页 |
3.3 调制的理论分析 | 第44-47页 |
3.3.1 调制方式的选择 | 第44-45页 |
3.3.2 脉冲调制和强度调制的实现途径 | 第45-47页 |
3.4 聚焦系统的理论分析 | 第47-53页 |
3.4.1 磁聚焦系统 | 第48-49页 |
3.4.2 静电聚焦系统理论计算 | 第49-53页 |
3.5 透射式阳极靶的理论计算 | 第53-61页 |
3.5.1 透射式阳极靶的厚度 | 第53-59页 |
3.5.2 阳极靶的热负荷 | 第59-61页 |
第四章 调制X射线源的仿真及优化 | 第61-114页 |
4.1 调制X射线源的电子运动学仿真 | 第61-85页 |
4.1.1 SIMION软件介绍 | 第61-63页 |
4.1.2 基于热阴极的电子运动学仿真 | 第63-85页 |
4.2 透射式阳极靶仿真 | 第85-114页 |
4.2.1 阳极靶的仿真软件简介 | 第85-87页 |
4.2.2 基于MCNP软件的透射式阳极靶仿真 | 第87-114页 |
第五章 调制X射线源的总体设计方案 | 第114-125页 |
5.1 电子发射系统的设计 | 第114-122页 |
5.1.1 基于CNT冷阴极的调制X射线源研制 | 第114-121页 |
5.1.2 金属热阴极电子发射系统的设计 | 第121-122页 |
5.2 栅极调制的设计 | 第122页 |
5.3 电子束汇聚系统的设计 | 第122-123页 |
5.4 阳极靶的设计 | 第123-124页 |
5.5 调制X射线源的整体结构 | 第124-125页 |
第六章 调制X射线源的关键技术攻关及工艺探索 | 第125-132页 |
6.1 调制X射线源的关键技术 | 第125-128页 |
6.1.1 低电压调制技术 | 第125-126页 |
6.1.2 透射式阳极靶 | 第126页 |
6.1.3 高真空密封技术 | 第126-128页 |
6.2 调制X射线源的工艺探索 | 第128-132页 |
6.2.1 高效能阴极丝的工艺探索 | 第128页 |
6.2.2 Be窗镀膜工艺探索 | 第128-132页 |
第七章 调制X射线源的样机研制及其测试平台搭建 | 第132-140页 |
7.1 调制X射线源的样机研制 | 第132-135页 |
7.1.1 调制X射线源的结构设计 | 第132-134页 |
7.1.2 调制X射线源的原理样机 | 第134-135页 |
7.2 调制X射线源的测试平台 | 第135-140页 |
7.2.1 电源电路实现方案 | 第135-137页 |
7.2.2 保护罩设计 | 第137-139页 |
7.2.3 调制X射线源的测试平台 | 第139-140页 |
第八章 调制X射线源的实验数据分析 | 第140-157页 |
8.1 钨靶谱线 | 第140-141页 |
8.2 热阴极功耗对X射线强度的影响 | 第141-145页 |
8.3 栅极幅值调制 | 第145-149页 |
8.4 栅极脉冲调制及其调制频率 | 第149-152页 |
8.5 栅极脉冲频率对X射线强度的影响 | 第152-157页 |
第九章 结论与展望 | 第157-160页 |
参考文献 | 第160-165页 |
致谢 | 第165-166页 |
作者简历及攻读博士期间发表的学术论文 | 第166页 |