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真空密封透射式微型微束调制X射线源

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 引言第12-17页
第二章 调制X射线源的发展历史第17-32页
    2.1 产生X射线的主要方式第17-21页
        2.1.1 X射线管第17-18页
        2.1.2 激光等离子体第18页
        2.1.3 同步辐射第18-20页
        2.1.4 X射线激光第20-21页
    2.2 微型X射线源的发展现状第21-24页
    2.3 调制X射线源的发展现状第24-32页
第三章 调制X射线源的理论研究第32-61页
    3.1 X射线的特性第32-37页
        3.1.1 X射线谱第32-34页
        3.1.2 X射线与物质的相互作用第34-37页
    3.2 电子发射系统的理论分析第37-44页
        3.2.1 热电子发射第37-40页
        3.2.2 场致电子发射第40-43页
        3.2.3 热电子发射与场致电子发射的比较第43-44页
    3.3 调制的理论分析第44-47页
        3.3.1 调制方式的选择第44-45页
        3.3.2 脉冲调制和强度调制的实现途径第45-47页
    3.4 聚焦系统的理论分析第47-53页
        3.4.1 磁聚焦系统第48-49页
        3.4.2 静电聚焦系统理论计算第49-53页
    3.5 透射式阳极靶的理论计算第53-61页
        3.5.1 透射式阳极靶的厚度第53-59页
        3.5.2 阳极靶的热负荷第59-61页
第四章 调制X射线源的仿真及优化第61-114页
    4.1 调制X射线源的电子运动学仿真第61-85页
        4.1.1 SIMION软件介绍第61-63页
        4.1.2 基于热阴极的电子运动学仿真第63-85页
    4.2 透射式阳极靶仿真第85-114页
        4.2.1 阳极靶的仿真软件简介第85-87页
        4.2.2 基于MCNP软件的透射式阳极靶仿真第87-114页
第五章 调制X射线源的总体设计方案第114-125页
    5.1 电子发射系统的设计第114-122页
        5.1.1 基于CNT冷阴极的调制X射线源研制第114-121页
        5.1.2 金属热阴极电子发射系统的设计第121-122页
    5.2 栅极调制的设计第122页
    5.3 电子束汇聚系统的设计第122-123页
    5.4 阳极靶的设计第123-124页
    5.5 调制X射线源的整体结构第124-125页
第六章 调制X射线源的关键技术攻关及工艺探索第125-132页
    6.1 调制X射线源的关键技术第125-128页
        6.1.1 低电压调制技术第125-126页
        6.1.2 透射式阳极靶第126页
        6.1.3 高真空密封技术第126-128页
    6.2 调制X射线源的工艺探索第128-132页
        6.2.1 高效能阴极丝的工艺探索第128页
        6.2.2 Be窗镀膜工艺探索第128-132页
第七章 调制X射线源的样机研制及其测试平台搭建第132-140页
    7.1 调制X射线源的样机研制第132-135页
        7.1.1 调制X射线源的结构设计第132-134页
        7.1.2 调制X射线源的原理样机第134-135页
    7.2 调制X射线源的测试平台第135-140页
        7.2.1 电源电路实现方案第135-137页
        7.2.2 保护罩设计第137-139页
        7.2.3 调制X射线源的测试平台第139-140页
第八章 调制X射线源的实验数据分析第140-157页
    8.1 钨靶谱线第140-141页
    8.2 热阴极功耗对X射线强度的影响第141-145页
    8.3 栅极幅值调制第145-149页
    8.4 栅极脉冲调制及其调制频率第149-152页
    8.5 栅极脉冲频率对X射线强度的影响第152-157页
第九章 结论与展望第157-160页
参考文献第160-165页
致谢第165-166页
作者简历及攻读博士期间发表的学术论文第166页

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