摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 钛及钛合金 | 第10-12页 |
1.1.1 钛及钛合金的特点及性质 | 第10页 |
1.1.2 钛合金的应用 | 第10-11页 |
1.1.3 钛合金的表面处理技术 | 第11-12页 |
1.2 微弧氧化技术的介绍 | 第12-19页 |
1.2.1 微弧氧化技术简介 | 第12-13页 |
1.2.2 微弧氧化技术的研究现状 | 第13-17页 |
1.2.3 微弧氧化膜层耐腐蚀性能的研究现状 | 第17-18页 |
1.2.4 钛合金微弧氧化技术存在的问题 | 第18-19页 |
1.3 选题的目的、意义和主要研究内容 | 第19-20页 |
1.3.1 选题目的、意义 | 第19页 |
1.3.2 主要研究内容 | 第19-20页 |
1.4 技术路线 | 第20-22页 |
第2章 试验材料及方法 | 第22-28页 |
2.1 试验设备及材料 | 第22-23页 |
2.1.1 试验材料及化学试剂 | 第22页 |
2.1.2 试验设备 | 第22-23页 |
2.2 微弧氧化膜层的制备 | 第23-25页 |
2.2.1 预处理 | 第23页 |
2.2.2 电解液的配制 | 第23页 |
2.2.3 微弧氧化膜层制备方法 | 第23-25页 |
2.3 微弧氧化陶瓷膜性能测试方法 | 第25-28页 |
2.3.1 厚度测定 | 第25页 |
2.3.2 硬度测定 | 第25-26页 |
2.3.3 物相分析 | 第26页 |
2.3.4 微观形貌分析 | 第26-27页 |
2.3.5 摩擦磨损性能测试 | 第27页 |
2.3.6 耐腐蚀性能测试 | 第27-28页 |
第3章 工艺参数对TC4钛合金微弧氧化膜层结构及性能的影响 | 第28-54页 |
3.1 氧化时间对TC4钛合金微弧氧化膜结构及性能的影响 | 第28-37页 |
3.1.1 氧化时间对膜层硬度和厚度的影响 | 第28-29页 |
3.1.2 氧化时间对膜层形貌的影响 | 第29-31页 |
3.1.3 氧化时间对膜层相结构的影响 | 第31-33页 |
3.1.4 氧化时间对膜层耐磨性的影响 | 第33-36页 |
3.1.5 氧化时间对膜层耐腐蚀性的影响 | 第36-37页 |
3.2 电流密度对TC4钛合金微弧氧化膜结构及性能的影响 | 第37-45页 |
3.2.1 电流密度对膜层硬度和厚度的影响 | 第37-38页 |
3.2.2 电流密度对膜层形貌的影响 | 第38-40页 |
3.2.3 电流密度对膜层相结构的影响 | 第40-41页 |
3.2.4 电流密度对膜层耐磨性的影响 | 第41-44页 |
3.2.5 电流密度对膜层耐蚀性的影响 | 第44-45页 |
3.3 Na_2SiO_3浓度对TC4钛合金微弧氧化膜层结构及性能的影响 | 第45-53页 |
3.3.1 Na_2SiO_3浓度对膜层硬度和厚度的影响 | 第45-46页 |
3.3.2 Na_2SiO_3浓度对膜层形貌的影响 | 第46-48页 |
3.3.3 Na_2SiO_3浓度对膜层相结构的影响 | 第48-49页 |
3.3.4 Na_2SiO_3浓度对膜层耐磨性的影响 | 第49-52页 |
3.3.5 Na_2SiO_3浓度对膜层耐蚀性的影响 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-54页 |
第4章 C_3H_8O_3浓度对TC4钛合金微弧氧化膜层性能的影响 | 第54-65页 |
4.1 C_3H_8O_3浓度对膜层硬度和硬度均匀性的影响 | 第54-56页 |
4.2 C_3H_8O_3浓度对膜层厚度和厚度均匀性的影响 | 第56-58页 |
4.3 C_3H_8O_3浓度对膜层相结构的影响 | 第58页 |
4.4 C_3H_8O_3浓度对膜层形貌的影响 | 第58-61页 |
4.5 C_3H_8O_3浓度对膜层耐蚀性的影响 | 第61-63页 |
4.6 C_3H_8O_3对膜层结构和性能的影响机理初步探讨 | 第63页 |
4.7 本章小结 | 第63-65页 |
第5章 TC4钛合金微弧氧化膜层形成过程初步探讨 | 第65-70页 |
5.1 引言 | 第65页 |
5.2 膜层形成过程讨论 | 第65-69页 |
5.2.1 微弧氧化现象 | 第65页 |
5.2.2 生长动力学曲线 | 第65-67页 |
5.2.3 形成过程探讨 | 第67-69页 |
5.3 本章小结 | 第69-70页 |
第6章 结论 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
攻读研究生学位期间发表的学术论文及参与的科研项目 | 第78页 |