摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
1.1 研究工作背景与意义 | 第12-18页 |
1.1.1 反射率测量技术的需求 | 第12页 |
1.1.2 现有反射率测量技术的分类和比较 | 第12-18页 |
1.1.2.1 单次反射法 | 第12-15页 |
1.1.2.2 多次反射法 | 第15-16页 |
1.1.2.3 谐振腔损耗比较测量法 | 第16-17页 |
1.1.2.4 精细度反射率测量方法 | 第17-18页 |
1.1.2.5 基于光腔衰荡技术的反射率测量方法 | 第18页 |
1.2 光腔衰荡技术国内外研究现状 | 第18-28页 |
1.2.1 脉冲光腔衰荡技术 | 第19-21页 |
1.2.2 相移光腔衰荡技术 | 第21-23页 |
1.2.3 连续光腔衰荡技术 | 第23-25页 |
1.2.4 光反馈光腔衰荡技术 | 第25-28页 |
1.2.5 光腔衰荡技术对比 | 第28页 |
1.3 本论文的主要研究内容 | 第28-30页 |
第二章 光腔衰荡理论及腔参数优化和反射率测量误差分析 | 第30-46页 |
2.1 基于时间衰减的光腔衰荡技术理论 | 第30-36页 |
2.2 腔参数优化 | 第36-37页 |
2.2.1 稳定性条件 | 第36页 |
2.2.2 衰荡时间拟合算法的选取 | 第36-37页 |
2.2.3 探测系统带宽的选取 | 第37页 |
2.3 光腔衰荡技术测量超高反光学元件反射率的误差分析 | 第37-44页 |
2.3.1 基本原理 | 第38页 |
2.3.2 实验装置 | 第38-44页 |
2.3.2.1 测试腔腔长与初始腔腔长不一致引入的误差 | 第39-41页 |
2.3.2.2 探测耦合方式引入的误差 | 第41-44页 |
2.4 本章小结 | 第44-46页 |
第三章 偏振反射率测量 | 第46-68页 |
3.1 入射光偏振方向对反射率测量的影响 | 第46-55页 |
3.1.1 多层介质薄膜的偏振反射率 | 第47-50页 |
3.1.2 偏振光腔衰荡理论 | 第50-52页 |
3.1.3 仿真分析与实验 | 第52-55页 |
3.2 S和P偏振反射率同时测量方法 | 第55-66页 |
3.2.1 理论 | 第55页 |
3.2.2 633nm He-Ne激光器光腔衰荡实验系统 | 第55-61页 |
3.2.3 635 nm半导体激光器光腔衰荡实验系统 | 第61-65页 |
3.2.4 1064nm半导体激光器光腔衰荡实验系统 | 第65-66页 |
3.3 本章小结 | 第66-68页 |
第四章 高透光学元件测量 | 第68-86页 |
4.1 光腔衰荡技术同时测量高透光学元件透过率、剩余反射和光学损耗 | 第68-80页 |
4.1.1 测量原理 | 第68-70页 |
4.1.2 实验装置 | 第70-72页 |
4.1.3 测量结果及分析 | 第72-77页 |
4.1.4 复合腔对测量结果的影响 | 第77-80页 |
4.2 综合透射测量 | 第80-85页 |
4.2.1 实验装置及基本原理 | 第80-82页 |
4.2.2 实验结果及讨论 | 第82-84页 |
4.2.3 误差分析 | 第84-85页 |
4.3 本章小结 | 第85-86页 |
第五章 高反或高透光学元件反射率/透过率/光学损耗成像 | 第86-102页 |
5.1 相关理论与实验 | 第87-89页 |
5.2 实验结果与分析 | 第89-99页 |
5.2.1 采集次数的优化 | 第89-90页 |
5.2.2 参考样品的标定 | 第90-91页 |
5.2.3 单点精度测量 | 第91-92页 |
5.2.4 一维线扫描 | 第92-95页 |
5.2.5 扫描步长优化 | 第95-96页 |
5.2.6 二维扫描测量 | 第96-99页 |
5.3 调腔评价指标 | 第99-101页 |
5.4 精度分析 | 第101页 |
5.5 本章小结 | 第101-102页 |
第六章 消光系数测量 | 第102-112页 |
6.1 变腔长光腔衰荡理论 | 第103-104页 |
6.2 实验 | 第104-105页 |
6.3 测量结果与分析 | 第105-111页 |
6.4 本章小结 | 第111-112页 |
第七章 总结与展望 | 第112-114页 |
7.1 全文总结 | 第112-113页 |
7.2 后续工作展望 | 第113-114页 |
致谢 | 第114-115页 |
参考文献 | 第115-130页 |
攻读博士学位期间取得的成果 | 第130-131页 |