摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 电磁防护材料的基本理论 | 第10-15页 |
1.2.1 电磁防护概述 | 第10-11页 |
1.2.2 屏蔽材料的概述及工作机理 | 第11-13页 |
1.2.3 吸波材料的概述及工作机理 | 第13-15页 |
1.3 吸波材料的研究现状 | 第15-19页 |
1.3.1 电阻型吸波材料 | 第15-17页 |
1.3.2 电介质型吸波材料 | 第17页 |
1.3.3 磁损耗型吸波材料 | 第17-18页 |
1.3.4 新型吸波材料 | 第18-19页 |
1.4 化学镀的概述及应用于防护屏蔽材料的研究 | 第19-23页 |
1.4.1 化学镀技术的概述 | 第20-21页 |
1.4.2 化学镀技术在防护材料中的应用 | 第21-23页 |
1.5 课题的研究背景、意义及内容 | 第23-25页 |
1.5.1 课题的研究背景及意义 | 第23页 |
1.5.2 课题的研究内容 | 第23-24页 |
1.5.3 课题的创新点 | 第24-25页 |
第二章 石墨片化学镀低磷铁镍合金层的工艺研究及性能表征 | 第25-46页 |
2.1 引言 | 第25-26页 |
2.2 实验 | 第26-31页 |
2.2.1 实验材料 | 第26-27页 |
2.2.2 实验仪器 | 第27页 |
2.2.3 样品制备工艺流程 | 第27-30页 |
2.2.4 材料表征 | 第30-31页 |
2.3 结果与讨论 | 第31-45页 |
2.3.1 化学镀前后石墨片的表面形貌分析 | 第31-34页 |
2.3.2 石墨片增重率的分析 | 第34-35页 |
2.3.3 石墨片表面化学镀低磷铁镍合金层的工艺研究 | 第35-42页 |
2.3.4 XRD分析 | 第42-43页 |
2.3.5 VSM分析 | 第43-44页 |
2.3.6 石墨片表面化学镀铁镍合金层形貌的生长过程 | 第44-45页 |
2.4 本章小结 | 第45-46页 |
第三章 石墨片化学镀铁镍合金层的工艺研究及性能表征 | 第46-61页 |
3.1 引言 | 第46-47页 |
3.2 实验 | 第47-50页 |
3.2.1 实验材料及设备 | 第47页 |
3.2.2 样品制备工艺流程 | 第47-49页 |
3.2.3 材料的表征方法 | 第49-50页 |
3.3 结果与讨论 | 第50-59页 |
3.3.1 化学镀前后石墨片的表面形貌分析 | 第50-51页 |
3.3.2 石墨片表面化学镀铁镍合金层的工艺研究 | 第51-56页 |
3.3.3 XRD分析 | 第56-57页 |
3.3.4 TEM分析 | 第57-58页 |
3.3.5 VSM分析 | 第58-59页 |
3.3.6 石墨片表面化学镀铁镍合金层形貌的生长过程 | 第59页 |
3.4 本章小结 | 第59-61页 |
第四章 石墨片铁镍合金化的电磁防护性能研究及扩大化生产应用 | 第61-71页 |
4.1 引言 | 第61页 |
4.2 实验 | 第61-64页 |
4.2.1 实验材料及仪器 | 第61-62页 |
4.2.2 制备方法 | 第62-63页 |
4.2.3 材料表征方法 | 第63-64页 |
4.3 结果与讨论 | 第64-70页 |
4.3.1 电磁参数及吸波性能的分析 | 第64-67页 |
4.3.2 屏蔽性能分析 | 第67-68页 |
4.3.3 扩大化生产后石墨片铁镍合金化样品的形貌及磁性能 | 第68-70页 |
4.4 本章小结 | 第70-71页 |
第五章 全文总结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-77页 |
发表论文和科研情况说明 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |