| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 ZnO的基本性质 | 第9-11页 |
| 1.2 ZnO薄膜的制备技术 | 第11-15页 |
| 1.2.1 溶胶-凝胶(Sol-Gel) | 第11-12页 |
| 1.2.2 金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第12-13页 |
| 1.2.3 磁控溅射(MS) | 第13页 |
| 1.2.4 分子束外延(MBE) | 第13-14页 |
| 1.2.5 脉冲激光沉积(PLD) | 第14-15页 |
| 1.3 ZnO薄膜的表征手段 | 第15-18页 |
| 1.3.1 X射线衍射(XRD) | 第15-16页 |
| 1.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第16-17页 |
| 1.3.3 光致发光(PL) | 第17-18页 |
| 1.3.4 紫外可见分光光度计 | 第18页 |
| 1.4 p型ZnO薄膜的研究进展 | 第18-24页 |
| 1.4.1 Ⅰ主族掺杂 | 第18-19页 |
| 1.4.2 Ⅴ主族掺杂 | 第19-21页 |
| 1.4.3 双受主掺杂 | 第21-22页 |
| 1.4.4 施主-受主共掺 | 第22-23页 |
| 1.4.5 其他共掺 | 第23-24页 |
| 1.5 选题依据和研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 热处理对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第25-36页 |
| 2.1 预热处理温度对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第25-28页 |
| 2.1.1 实验内容 | 第25-28页 |
| 2.1.2 实验结果与讨论 | 第28页 |
| 2.2 热处理温度对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第28-33页 |
| 2.2.1 实验内容 | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验结果与讨论 | 第29-33页 |
| 2.3 预热处理时间对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第33-34页 |
| 2.3.1 实验内容 | 第33-34页 |
| 2.3.2 实验结果与讨论 | 第34页 |
| 2.4 热处理时间对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.1 实验内容 | 第34-35页 |
| 2.4.2 实验结果与讨论 | 第35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 掺杂浓度与种类对(Li, N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第36-49页 |
| 3.1 Li掺杂浓度对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第36-41页 |
| 3.1.1 实验内容 | 第36页 |
| 3.1.2 实验结果与讨论 | 第36-41页 |
| 3.2 N掺杂浓度对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第41-46页 |
| 3.2.1 实验内容 | 第42页 |
| 3.2.2 实验结果与讨论 | 第42-46页 |
| 3.3 掺杂源种类对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.1 实验内容 | 第46页 |
| 3.3.2 实验结果与讨论 | 第46-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 其它工艺参数对(Li, N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第49-56页 |
| 4.1 过渡层对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.1.1 实验内容 | 第49页 |
| 4.1.2 实验结果与讨论 | 第49-50页 |
| 4.2 热处理对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.1 实验内容 | 第50页 |
| 4.2.2 实验结果与讨论 | 第50-52页 |
| 4.3 升温速率对(Li,N):ZnO薄膜光学性能的影响 | 第52-55页 |
| 4.3.1 实验内容 | 第52页 |
| 4.3.2 实验结果与讨论 | 第52-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 附录 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62页 |
