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硅和四氯化硅耦合加氢反应制备三氯氢硅的工艺研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-32页
   ·立题背景第7-14页
     ·太阳能概述第7-8页
     ·国内外太阳能利用情况第8-9页
     ·太阳能电池发展现状第9-14页
   ·多晶硅的生产状况及主要工艺第14-26页
     ·多晶硅的重要性及国内外生产厂家第14-17页
     ·多晶硅生产现状第17-20页
     ·多晶硅生产技术现状第20-25页
     ·太阳能级多晶硅制备新工艺发展第25-26页
   ·四氯化硅的处理第26-30页
     ·生产二氧化硅第27-28页
     ·SiCl_4 氢化法制备SiHCl_3第28-30页
   ·本论文的研究目的和主要研究内容第30-32页
第二章 硅和四氯化硅耦合加氢反应体系热力学分析第32-46页
   ·复杂化学平衡体系研究概况第32-34页
   ·计算方法的新发展第34-36页
   ·计算方法及计算程序第36-39页
   ·热力学计算结果及讨论第39-45页
     ·硅和四氯化硅耦合加氢反应气相平衡成分图第39-41页
     ·反应体系的△_rH_m~θ-T图、△_rG_m~θ-T图和K_p~θ-T图第41-42页
     ·温度对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第42-43页
     ·压力对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第43-44页
     ·H_2/SiCl_4进料比对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第44-45页
   ·本章小结第45-46页
第三章 硅和四氯化硅耦合加氢反应最优化操作条件第46-53页
   ·研究目的和研究内容第46页
     ·研究目的第46页
     ·研究内容第46页
   ·实验方法第46-49页
     ·实验装置图第46-47页
     ·实验药品第47页
     ·实验仪器及设备第47-48页
     ·反应产物的分析方法第48-49页
   ·实验结果第49-52页
     ·温度对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第49-51页
     ·压力对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第51-52页
     ·H_2/SiCl_4 对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第52页
   ·本章小结第52-53页
第四章 金属催化剂对硅和四氯化硅耦合加氢反应的影响第53-56页
   ·实验目的第53页
   ·所用实验药品及实验设备第53页
   ·金属催化剂的制备第53页
   ·分析方法第53页
   ·实验结果与讨论第53-54页
   ·本章小结第54-56页
第五章 结论第56-57页
参考文献第57-65页
攻读硕士期间发表或录用的论文第65-66页
致谢第66-69页

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