摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
1. 绪论 | 第8-20页 |
·引言 | 第8-9页 |
·导电辊应用现状 | 第9-11页 |
·Ni 基合金的研究进展 | 第11-17页 |
·电沉积Ni | 第11-12页 |
·电沉积Ni 基合金 | 第12-17页 |
·电沉积Ni-P 合金 | 第12-14页 |
·电沉积Ni-W 合金 | 第14-15页 |
·电沉积Ni-Co 合金 | 第15-16页 |
·电沉积Ni-Cr 合金 | 第16-17页 |
·Ni 基合金的发展前景 | 第17页 |
·课题的选择 | 第17-19页 |
·电镀工艺的选择 | 第17-18页 |
·Ni-Cr 合金的性能测试 | 第18页 |
·Ni-P 合金镀层的选择 | 第18-19页 |
·论文的主要研究内容 | 第19-20页 |
2. 实验方法 | 第20-25页 |
·实验原料 | 第20-21页 |
·实验设备及方法简介 | 第21-22页 |
·性能测试及表征方法 | 第22-25页 |
·合金表面形貌表征方法 | 第22-23页 |
·合金元素含量测试方法 | 第23页 |
·晶体结构测试方法 | 第23页 |
·极化曲线测试方法 | 第23页 |
·合金镀层硬度测试方法 | 第23页 |
·Ni-P 合金的DSC 曲线测定方法 | 第23-25页 |
3. Ni-P 合金镀层的研究 | 第25-55页 |
·Ni-P 合金镀层研究的出发点 | 第25-26页 |
·电沉积Ni-P 镀层实验条件探索及工艺控制 | 第26-31页 |
·电沉积时间对镀层耐蚀性的影响 | 第26-27页 |
·电沉积温度对镀层耐蚀性的影响 | 第27-28页 |
·镀液中H_3P0_3 含量对电沉积效率影响 | 第28-29页 |
·镀液H_3P0_3 含量对镀层P 含量的影响 | 第29-31页 |
·P 含量对镀层结构及性能的影响 | 第31-48页 |
·P 含量对镀层结构的影响 | 第31-35页 |
·P 含量对镀层性能的影响 | 第35-47页 |
·力学性能 | 第35-38页 |
·耐蚀性 | 第38-47页 |
·P 含量对Ni-P 合金性能的影响总结 | 第47-48页 |
·高P 含量Ni-P 合金镀层性能与哈氏合金比较 | 第48-52页 |
·耐蚀性比较 | 第48-52页 |
·极化曲线 | 第48-49页 |
·浸泡腐蚀 | 第49-52页 |
·硬度比较 | 第52页 |
·结论 | 第52-55页 |
·不同P 含量合金层的性能 | 第52-53页 |
·高P 含量非晶态合金与哈氏合金性能比较 | 第53-55页 |
4. 热处理对电沉积高P 含量Ni-P 镀层性能的影响 | 第55-69页 |
·高P 含量Ni-P 镀层的差热分析 | 第55-56页 |
·Ni-P 镀层的热处理工艺条件 | 第56-57页 |
·热处理对镀层组织的影响 | 第57-61页 |
·热处理对镀层性能的影响 | 第61-68页 |
·力学性能 | 第61-62页 |
·耐蚀性 | 第62-68页 |
·结论 | 第68-69页 |
5. 结论、意义及展望 | 第69-72页 |
·结论 | 第69-70页 |
·意义 | 第70页 |
·展望 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第76-77页 |
致谢 | 第77-79页 |