| 摘要 | 第6-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第16-40页 |
| 1.1 LuAG透明陶瓷 | 第16-21页 |
| 1.1.1 透明陶瓷概述 | 第16-17页 |
| 1.1.2 LuAG结构与物理化学性质 | 第17-19页 |
| 1.1.3 高光学质量LuAG透明陶瓷制备方法 | 第19-21页 |
| 1.2 LuAG闪烁透明陶瓷的研究现状 | 第21-24页 |
| 1.2.1 闪烁机理 | 第21-22页 |
| 1.2.2 常用的镥基闪烁体与其它高性能闪烁体的性能对比 | 第22-23页 |
| 1.2.3 LuAG闪烁体的研究现状及应用 | 第23-24页 |
| 1.3 LuAG激光透明陶瓷概述 | 第24-32页 |
| 1.3.1 固态激光工作原理及能级系统 | 第25-26页 |
| 1.3.2 Yb:LuAG激光透明陶瓷的优势和前景 | 第26-27页 |
| 1.3.3 Yb:LuAG激光器 | 第27-32页 |
| 1.4 课题的提出及主要研究内容 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-40页 |
| 第二章 实验原料、实验设备及表征 | 第40-46页 |
| 2.1 实验原料与设备 | 第40-41页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第40页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第40-41页 |
| 2.2 主要测试方法 | 第41-46页 |
| 2.2.1 结构与性能测试 | 第41-42页 |
| 2.2.2 材料的成分分析 | 第42页 |
| 2.2.3 粉体的分散特性及烧结活性表征 | 第42-44页 |
| 2.2.4 光谱性能测试 | 第44页 |
| 2.2.5 微片和薄片激光泵浦实验 | 第44-46页 |
| 第三章 共沉淀法合成LuAG粉体及透明陶瓷制备 | 第46-64页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验过程 | 第47-51页 |
| 3.2.1 实验原料、试剂及设备 | 第47页 |
| 3.2.2 正滴与反滴共沉淀形成机理分析 | 第47-49页 |
| 3.2.3 反滴共沉淀法制备LuAG纳米粉体 | 第49-50页 |
| 3.2.4 LuAG陶瓷的烧结 | 第50-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-62页 |
| 3.3.1 沉淀pH值对LuAG粉体和陶瓷烧结透明性的影响 | 第52-55页 |
| 3.3.2 硫酸铵为分散剂对LuAG粉体及烧结性能的影响 | 第55-57页 |
| 3.3.3 煅烧温度对LuAG粒度分布和显微结构的影响 | 第57-59页 |
| 3.3.4 烧结温度对LuAG透明陶瓷透过率的影响 | 第59-61页 |
| 3.3.5 LuAG透明陶瓷的光学均匀性 | 第61-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 Yb:LuAG透明陶瓷的制备及光学性能 | 第64-81页 |
| 4.1 Yb~(3+)掺杂在镥基透明陶瓷中的优势 | 第64-65页 |
| 4.2 Yb:LuAG制备过程中组分遗传性表征 | 第65-66页 |
| 4.3 纳米晶无压氢气烧结2at.%Yb:LuAG透明陶瓷 | 第66-73页 |
| 4.3.1 Yb:LuAG陶瓷素坯的烧结收缩性能表征 | 第66-67页 |
| 4.3.2 滴定速度对2at.%Yb:LuAG陶瓷光学质量的影响 | 第67-70页 |
| 4.3.3 不同烧结温度对2at.%Yb:LuAG陶瓷透明性的影响 | 第70-73页 |
| 4.4 不同掺杂浓度(3-10at.%)Yb:LuAG透明陶瓷 | 第73-74页 |
| 4.5 不同掺杂浓度Yb：LuAG透明陶瓷光学均匀性表征 | 第74-77页 |
| 4.6 本章小结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第五章 自制Yb:LuAG透明陶瓷激光输出 | 第81-101页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 烧结助剂对激光透明陶瓷的影响 | 第81-84页 |
| 5.2.1 固相反应真空烧结技术 | 第81-82页 |
| 5.2.2 纳米晶真空烧结技术 | 第82-84页 |
| 5.3 自制3at.%Yb:LuAG微片（micro-chip）激光性能 | 第84-91页 |
| 5.3.1 3at.%Yb:LuAG透明陶瓷制备 | 第84-88页 |
| 5.3.2 二极管单管泵浦激光实验 | 第88-89页 |
| 5.3.3 3at.%Yb:LuAG透明陶瓷微片激光性能 | 第89-91页 |
| 5.4 自制3at.%Yb:LuAG薄片（thin-disk）激光输出 | 第91-96页 |
| 5.4.1 薄片激光原理及应用 | 第91-92页 |
| 5.4.2 超薄片激光元件加工和激光实验 | 第92-94页 |
| 5.4.3 实验装置和实验过程 | 第94-95页 |
| 5.4.4 结果与分析 | 第95-96页 |
| 5.5 本章小结 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-101页 |
| 第六章 Tm掺杂LuAG透明陶瓷 | 第101-112页 |
| 6.1 引言 | 第101页 |
| 6.2 Tm：LuAG激光调研 | 第101-105页 |
| 6.3 Tm:LuAG透明陶瓷制备和光学性能 | 第105-108页 |
| 6.4 Yb,Tm共掺LuAG透明陶瓷设计和光学性能 | 第108-110页 |
| 6.5 本章小结 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 第七章 结论与展望 | 第112-115页 |
| 7.1 引言 | 第112页 |
| 7.2 主要结论 | 第112-113页 |
| 7.3 未来展望 | 第113-115页 |
| 在读期间发表的论文 | 第115-116页 |
| 在读期间参加的学术会议 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
