| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 铁电材料简介 | 第9-11页 |
| 1.3 铁电存储器的研究及其发展现状 | 第11-14页 |
| 1.3.1 铁电存储器的类型与应用 | 第11-12页 |
| 1.3.2 铁电存储器的失效问题 | 第12-14页 |
| 1.4 铁电薄膜漏电流研究概述 | 第14-16页 |
| 1.4.1 漏电流的导电机理 | 第14-15页 |
| 1.4.2 漏电流的主要影响因素 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究目的与意义 | 第16-17页 |
| 第2章 基础理论与计算方法 | 第17-22页 |
| 2.1 第一性原理与密度泛函理论 | 第17-19页 |
| 2.1.1 Hohenberg-Kohn理论 | 第17-18页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第18-19页 |
| 2.1.3 交换关联函数 | 第19页 |
| 2.2 非平衡格林函数及输运性质的计算 | 第19-20页 |
| 2.3 第一性原理计算软件 | 第20-22页 |
| 2.3.1 VASP软件包 | 第20-21页 |
| 2.3.2 ATK软件 | 第21-22页 |
| 第3章 氧空位缺陷对铁电薄膜漏电流的影响及其调控 | 第22-29页 |
| 3.1 引言 | 第22-23页 |
| 3.2 计算方法与模型 | 第23页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第23-27页 |
| 3.3.1 氧空位缺陷对漏电流的影响 | 第23-25页 |
| 3.3.2 阳离子掺杂对氧缺陷引起的漏电流的抑制 | 第25-27页 |
| 3.4 结论 | 第27-29页 |
| 第4章 畴壁对铁电薄膜漏电流的影响 | 第29-38页 |
| 4.1 引言 | 第29-30页 |
| 4.2 垂直于电极的 180°畴壁对漏电流的影响 | 第30-34页 |
| 4.2.1 计算方法与模型 | 第30-31页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第31-34页 |
| 4.3 平行于电极方向的 180°畴壁对漏电流的影响 | 第34-37页 |
| 4.3.1 计算方法与模型 | 第34-35页 |
| 4.3.2 结果与讨论 | 第35-37页 |
| 4.4 结论 | 第37-38页 |
| 第5章 总结与展望 | 第38-40页 |
| 5.1 工作总结 | 第38页 |
| 5.2 工作展望 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 个人简历、攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第46页 |