摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 研究背景 | 第15-35页 |
1.1 钛硅分子筛/H_2O_2体系环氧化反应概述 | 第16-18页 |
1.1.1 钛硅分子筛/H_2O_2体系环氧化反应反应机理简介 | 第16页 |
1.1.2 钛硅分子筛/H_2O_2体系反应中间体介绍 | 第16-18页 |
1.2 钛硅分子筛/H_2O_2体系溶剂效应的研究进展 | 第18-22页 |
1.2.1 溶剂性质的简要概述 | 第18-19页 |
1.2.2 钛硅分子筛/H_2O_2体系中溶剂扩散作用简介 | 第19-20页 |
1.2.3 钛硅分子筛/H_2O_2体系中溶剂吸附作用简介 | 第20-21页 |
1.2.4 钛硅分子筛/H_2O_2体系中溶剂的极性及质子性对反应的影响 | 第21-22页 |
1.3 等动力学补偿效应概述 | 第22-26页 |
1.3.1 动力学补偿效应简介 | 第22-23页 |
1.3.2 动力学补偿效应的解释 | 第23-24页 |
1.3.3 动力学补偿效应的验证 | 第24页 |
1.3.4 动力学补偿效应的应用 | 第24-26页 |
1.4 DFT模拟计算对钛硅分子筛/H_2O_2体系的研究进展 | 第26-33页 |
1.4.1 DFT模拟计算在分子筛结构上的应用 | 第26-27页 |
1.4.2 DFT模拟计算在表征谱图上的应用 | 第27-28页 |
1.4.3 DFT模拟计算在反应机理上的应用 | 第28-33页 |
1.5 论文选题的意义与研究思路 | 第33-35页 |
2 实验部分 | 第35-44页 |
2.1 化学试剂及其规格介绍 | 第35-36页 |
2.2 催化剂的制备 | 第36-38页 |
2.2.1 TS-1分子筛的制备 | 第36页 |
2.2.2 TS-1~+分子筛的制备 | 第36-37页 |
2.2.3 TS-1~S分子筛的制备 | 第37页 |
2.2.4 Ti-MWW分子筛的制备 | 第37页 |
2.2.5 F-Ti-MWW分子筛的制备 | 第37-38页 |
2.3 钛硅分子筛H_2O_2体系溶剂效应评价体系 | 第38-39页 |
2.3.1 固体紫外漫反射可见光谱(UV-Vis) | 第38页 |
2.3.2 X射线粉末衍射(XRD) | 第38页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第38页 |
2.3.4 电感耦合等离子体发射光谱(ICP) | 第38页 |
2.3.5 比表面积及孔径分析(BET) | 第38-39页 |
2.3.6 固体魔角核磁共振谱(MAS NMR) | 第39页 |
2.3.7 傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第39页 |
2.4 钛硅分子筛/H_2O_2体系溶剂效应评价体系 | 第39-42页 |
2.4.1 固定床装置构造 | 第39-40页 |
2.4.2 固定床装置反应条件 | 第40-42页 |
2.5 参数测定分析 | 第42-44页 |
2.5.1 反应体系中H_2O_2转化分析 | 第42-43页 |
2.5.2 DFT | 第43-44页 |
3 结果与讨论 | 第44-74页 |
3.1 反应机理推导与溶剂选择 | 第44-47页 |
3.1.1 引言 | 第44页 |
3.1.2 确定反应级数 | 第44-45页 |
3.1.3 溶剂性质的影响 | 第45-47页 |
3.2 MFI结构分子筛的溶剂效应研究 | 第47-56页 |
3.2.1 三种MFI分子筛的性能表征 | 第47-50页 |
3.2.2 TS-1分子筛的溶剂效应研究 | 第50-52页 |
3.2.3 TS-1~+分子筛的等动力学溶剂效应研究 | 第52-54页 |
3.2.4 TS-1~S分子筛的溶剂效应研究 | 第54-56页 |
3.3 MWW结构分子筛的溶剂效应研究 | 第56-63页 |
3.3.1 Ti-MWW分子筛的溶剂效应研究 | 第59-61页 |
3.3.2 F-Ti-MWW分子筛的溶剂效应研究 | 第61-63页 |
3.4 钛硅分子筛/H_2O_2的溶剂效应研究 | 第63-67页 |
3.4.1 MFI分子筛的溶剂效应研究 | 第63-65页 |
3.4.2 MWW分子筛的溶剂效应研究 | 第65-66页 |
3.4.3 钛硅分子筛/H_2O_2的溶剂效应研究 | 第66-67页 |
3.5 DFT计算对钛硅分子筛/H_2O_2催化体系等动力学补偿效应的研究 | 第67-74页 |
3.5.1 引言 | 第67页 |
3.5.2 DFT辅助溶剂效应的研究 | 第67-70页 |
3.5.3 F离子的影响 | 第70-72页 |
3.5.4 NH_3的影响 | 第72-74页 |
4 研究总结与展望 | 第74-76页 |
4.1 研究总结 | 第74页 |
4.2 工作展望 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-84页 |
学习期间的科研成果 | 第84-85页 |
致谢 | 第85页 |