| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-15页 |
| 1.2.1 隐身技术简介 | 第9-10页 |
| 1.2.2 隐身天线技术的研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.3 低散射天线的仿真及测量方法 | 第13-15页 |
| 1.3 本文的主要内容 | 第15-17页 |
| 2 微带天线隐身技术的研究背景分析 | 第17-26页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 微带天线的散射 | 第17-20页 |
| 2.3 圆极化天线对隐身技术的要求分析 | 第20-22页 |
| 2.4 可重构对天线隐身技术的要求分析 | 第22-24页 |
| 2.5 雷达波低仰角入射对天线隐身技术的要求分析 | 第24-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 基于PRAS的低散射高增益天线单元及阵列性能研究 | 第26-50页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 基于PRAS的低散射高增益一体化天线单元设计 | 第26-38页 |
| 3.2.1 PRAS天线的工作原理 | 第28页 |
| 3.2.2 等效电路分析 | 第28-30页 |
| 3.2.3 低散射高增益PRAS一体化天线单元设计 | 第30-38页 |
| 3.3 2×2 PRAS低散射天线阵列设计 | 第38-46页 |
| 3.3.1 微带天线阵列隐身的难点 | 第38-39页 |
| 3.3.2 线极化2×2 PRAS天线阵设计 | 第39-42页 |
| 3.3.3 圆极化2×2 PRAS天线阵设计 | 第42-46页 |
| 3.4 实物加工与测试 | 第46-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 4 基于小型化极化独立AMC结构的低散射高增益天线设计 | 第50-61页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2 AMC单元的小型化 | 第51-54页 |
| 4.2.1 基于单元卷曲交指技术的小型化技术 | 第51-53页 |
| 4.2.2 基于金属过孔优化的小型化技术 | 第53-54页 |
| 4.3 基于小型化AMC单元的低散射高增益天线设计 | 第54-60页 |
| 4.3.1 单元铺设方式对天线辐射性能的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.2 基于单元卷曲交指技术的小型化AMC_1和AMC_2的低散射高增益天线设计 | 第56-58页 |
| 4.3.3 单元弯曲与金属过孔技术结合的小型化AMC的低散射高增益天线设计 | 第58-60页 |
| 4.3.4 性能比较 | 第60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 5 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 本文的主要工作 | 第61-62页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 附录 | 第70页 |
