| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·铀表面防腐涂层的研究现状及存在的问题 | 第10-12页 |
| ·氧化物陶瓷涂层简介 | 第12-17页 |
| ·阴极微弧电沉积技术及其应用 | 第17-23页 |
| ·阴极微弧电沉积技术的产生与发展 | 第17-18页 |
| ·阴极微弧电沉积制备Al_2O_3陶瓷膜原理 | 第18-21页 |
| ·阴极微弧电沉积制备Al_2O_3陶瓷膜的影响因素 | 第21-22页 |
| ·阴极微弧电沉积技术应用前景及存在的问题 | 第22-23页 |
| ·本研究的目的及主要内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-30页 |
| ·实验材料及设备 | 第24-25页 |
| ·阴极微弧电沉积参数设计方案 | 第25-27页 |
| ·氧化铝陶瓷涂层结构和性能表征 | 第27-29页 |
| ·膜层微观形貌 | 第27页 |
| ·膜层厚度的测定 | 第27-28页 |
| ·膜层的物相和元素组成分析 | 第28页 |
| ·膜基结合强度分析 | 第28-29页 |
| ·贫铀表面氧化铝陶瓷涂层耐蚀性能 | 第29-30页 |
| ·电化学性能测试 | 第29页 |
| ·大气环境稳定性测试 | 第29页 |
| ·湿热腐蚀试验 | 第29-30页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第30-55页 |
| ·艺参数对起弧的影响 | 第30-36页 |
| ·样品表面状态对起弧的影响 | 第30-31页 |
| ·搅拌速度对起弧的影响 | 第31-32页 |
| ·电解液浓度对起弧时间的影响 | 第32-33页 |
| ·平均电流密度对起弧时间的影响 | 第33-34页 |
| ·工作频率对起弧时间的影响 | 第34-35页 |
| ·占空比对起弧时间的影响 | 第35-36页 |
| ·工艺参数对氧化铝陶瓷涂层结构与相组成的影响 | 第36-49页 |
| ·电解液浓度的影响 | 第36-39页 |
| ·电流密度的影响 | 第39-42页 |
| ·工作频率的影响 | 第42-45页 |
| ·占空比的影响 | 第45-47页 |
| ·沉积时间的影响 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49页 |
| ·氧化铝陶瓷涂层与基体的结合力 | 第49-51页 |
| ·贫铀表面氧化铝陶瓷涂层耐腐蚀性能 | 第51-55页 |
| ·大气环境中的稳定性 | 第51-52页 |
| ·湿热腐蚀试验 | 第52-53页 |
| ·电化学腐蚀性能 | 第53-55页 |
| 第四章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 附录 | 第63页 |