| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 引言 | 第9-10页 |
| 2 文献综述 | 第10-24页 |
| ·釉的简介 | 第10-12页 |
| ·釉的定义、作用和分类 | 第10-11页 |
| ·釉的分类 | 第11页 |
| ·釉的力学性能 | 第11-12页 |
| ·全抛釉简介 | 第12页 |
| ·全抛釉各原料与添加剂的性质特点及作用 | 第12-17页 |
| ·钾钠长石的特点与作用 | 第12-13页 |
| ·石英的特点与作用 | 第13-14页 |
| ·硅灰石的特点与作用 | 第14页 |
| ·石灰石的特点与作用 | 第14-15页 |
| ·高岭土特点与作用 | 第15页 |
| ·氧化铝的特点与作用 | 第15页 |
| ·氧化锌的特点与作用 | 第15页 |
| ·煅烧白滑石的特点与作用 | 第15-16页 |
| ·羧甲基纤维素钠(CMC)的特点与作用 | 第16页 |
| ·三聚磷酸钠的特点及作用 | 第16-17页 |
| ·全抛釉釉料中各制釉氧化物的作用 | 第17-18页 |
| ·SiO_2的作用 | 第17页 |
| ·Al_2O_3 的作用 | 第17页 |
| ·CaO的作用 | 第17-18页 |
| ·MgO的作用 | 第18页 |
| ·K_2O、Na_2O的作用 | 第18页 |
| ·ZnO的作用 | 第18页 |
| ·全抛釉的优缺点与应用领域 | 第18-19页 |
| ·全抛釉的行情与发展趋势 | 第19-21页 |
| ·如何选购全抛釉产品 | 第21页 |
| ·全抛釉产品釉面质量影响因素 | 第21-24页 |
| ·釉面针孔产生的原因 | 第22页 |
| ·全抛釉硬度和耐磨性的影响因素 | 第22-24页 |
| 3 实验部分 | 第24-44页 |
| ·坯体和底釉配方的确定 | 第24-25页 |
| ·坯体配方的确定 | 第24页 |
| ·底釉配方的确定 | 第24-25页 |
| ·全抛釉配方的确定 | 第25-42页 |
| ·实验原料及设备 | 第25-26页 |
| ·实验原料和成分 | 第25页 |
| ·实验及检测仪器 | 第25-26页 |
| ·性能测试 | 第26-27页 |
| ·显微维氏硬度仪 | 第26页 |
| ·有釉耐磨试验机 | 第26页 |
| ·XRF分析 | 第26页 |
| ·热膨胀分析 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第26页 |
| ·光泽度测试 | 第26-27页 |
| ·全抛釉的质量控制、制备、烧成和整个工艺流程 | 第27-29页 |
| ·釉料质量的控制 | 第27页 |
| ·全抛釉的制备 | 第27-28页 |
| ·施釉及釉烧 | 第28-29页 |
| ·试验流程 | 第29页 |
| ·全抛釉配方设计 | 第29-30页 |
| ·全抛釉釉料配方设计原则 | 第29-30页 |
| ·全抛釉配方设计方法 | 第30页 |
| ·抛光前后全抛釉砖的釉面变化 | 第30-31页 |
| ·用正交实验法确定全抛釉的最佳优化配方 | 第31-34页 |
| ·硅铝比对釉面质量的影响 | 第34-36页 |
| ·CaO的含量对全抛釉砖釉面质量的影响 | 第36-38页 |
| ·CaO含量对釉面光泽度的影响 | 第36-37页 |
| ·CaO含量对釉面显微维氏硬度的影响 | 第37-38页 |
| ·K_2O+Na_2O含量对全抛釉砖釉面质量的影响 | 第38-40页 |
| ·K_2O+Na_2O含量对釉面光泽度的影响 | 第39-40页 |
| ·K_2O+Na_2O含量对釉面显微维氏硬度的影响 | 第40页 |
| ·ZnO含量对全抛釉砖釉面质量的影响 | 第40-42页 |
| ·ZnO含量对釉面光泽度的影响 | 第41-42页 |
| ·ZnO含量对釉面显微维氏硬度的影响 | 第42页 |
| ·本节小结 | 第42-44页 |
| 4 全抛釉的表征和分析 | 第44-48页 |
| ·线性膨胀仪结果分析 | 第44-46页 |
| ·釉料始熔温度结果分析 | 第44-45页 |
| ·坯釉适应性结果分析 | 第45-46页 |
| ·SEM扫描电镜结果分析 | 第46-48页 |
| 5 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |