| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 本课题的研究背景及意义 | 第12-22页 |
| ·铬酸根的污染及其处理现状 | 第12-15页 |
| ·铬酸根的主要来源 | 第12-13页 |
| ·铬酸根的危害 | 第13页 |
| ·铬酸根的处理现状 | 第13-15页 |
| ·钼酸根离子 | 第15-16页 |
| ·钼酸根的主要来源 | 第15页 |
| ·钼酸根的危害 | 第15-16页 |
| ·钼酸根的处理现状 | 第16页 |
| ·离子（分子）印迹技术 | 第16-20页 |
| ·离子（分子）印迹技术的概述 | 第16-18页 |
| ·传统离子（分子）印迹聚合物的制备及缺点 | 第18-19页 |
| ·新型离子（分子）表面印迹技术 | 第19-20页 |
| ·本课题的研究目标和意义 | 第20-22页 |
| 2 季铵化接枝微粒 QPDMAEMA/SiO_2的制备与表征 | 第22-34页 |
| ·实验部分 | 第22-25页 |
| ·试剂与仪器 | 第22页 |
| ·表面引发接枝法制备接枝微粒 PDMAEMA/SiO_2及其表征 | 第22-24页 |
| ·接枝微粒 PDMAEMA/SiO_2的季铵化转变 | 第24-25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-33页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2的制备过程 | 第25-27页 |
| ·接枝微粒 PDMAEMA/SiO_2与功能微粒QPDMAEMA/SiO_2的红外谱 | 第27-28页 |
| ·接枝微粒的形貌 | 第28-29页 |
| ·接枝微粒的热失重谱图 | 第29页 |
| ·主要因素对 DMAEMA 表面引发接枝聚合体系的影响 | 第29-31页 |
| ·主要因素对接枝微粒季铵化转变反应的影响 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 铬酸根离子印迹材料的制备及其离子识别特性研究 | 第34-52页 |
| ·实验部分 | 第34-41页 |
| ·试剂与仪器 | 第34-35页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2的 Zeta 电位测定 | 第35页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2对铬酸根的吸附实验 | 第35-36页 |
| ·CrO_4~(2-)标准曲线的绘制 | 第36-37页 |
| ·铬酸根离子表面印迹材料的制备与表征 | 第37页 |
| ·考察主要因素对离子表面印迹的影响 | 第37页 |
| ·静态法考察 IIP-QPDMAEMA/SiO_2对 CrO_4~(2-)的结合特性 | 第37-38页 |
| ·NO_3~-和 HPO_4~(2-)离子标准曲线的绘制 | 第38-40页 |
| ·动态法测定等温结合性能 | 第40页 |
| ·结合选择性实验 | 第40-41页 |
| ·洗脱性能的考察 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-50页 |
| ·微粒的 Zeta 电位曲线 | 第41-42页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2对铬酸根的高吸附容量特性 | 第42-43页 |
| ·季铵化接枝微粒吸附性能对介质 pH 值的非敏感性 | 第43-44页 |
| ·制备 CrO_4~(2-)阴离子表面印迹材料IIP-QPDMAEMA/SiO_2的化学过程 | 第44-45页 |
| ·印迹材料 IIP-QPDMAEMA/SiO_2的红外表征 | 第45页 |
| ·印迹材料 IIP-QPDMAEMA/SiO_2对 CrO_4~(2-)离子的结合特性 | 第45-48页 |
| ·选择性系数 | 第48页 |
| ·IIP-QPDMAEMA/SiO_2的脱附性能 | 第48-49页 |
| ·交联剂用量对 IIP-QPDMAEMA/SiO_2结合性能的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 4 钼酸根离子印迹材料的制备及其离子识别特性研究 | 第52-69页 |
| ·实验部分 | 第52-59页 |
| ·试剂与仪器 | 第52-53页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2对钼酸根的吸附实验 | 第53页 |
| ·MoO_4~(2-)标准曲线的绘制 | 第53-54页 |
| ·钼酸根离子表面印迹材料的制备与表征 | 第54-55页 |
| ·考察主要因素对离子表面印迹的影响 | 第55页 |
| ·静态法考察 IIP-QPDMAEMA/SiO_2对 MoO_4~(2-)的结合特性 | 第55页 |
| ·WO_4~(2-)与 MnO_4~-标准曲线的绘制 | 第55-57页 |
| ·动态法测定等温结合性能 | 第57-58页 |
| ·结合选择性实验 | 第58页 |
| ·洗脱性能的考察 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-67页 |
| ·功能微粒 QPDMAEMA/SiO_2对钼的高吸附容量特性 | 第59-60页 |
| ·制备 MoO_4~(2-)阴离子表面印迹材料 IIP-QPDMAEMA/SiO_2的化学过程 | 第60-61页 |
| ·印迹材料 IIP-QPDMAEMA/SiO_2的红外表征 | 第61-62页 |
| ·印迹材料 IIP-QPDMAEMA/SiO_2对 MoO_4~(2-)离子的结合特性 | 第62-64页 |
| ·选择性系数 | 第64-65页 |
| ·IIP-QPDMAEMA/SiO_2的脱附性能 | 第65-66页 |
| ·交联剂用量对 IIP-QPDMAEMA/SiO_2结合选择性能的影响 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
