| 摘要 | 第1-14页 |
| Abstract | 第14-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-29页 |
| ·研究背景和意义 | 第17-20页 |
| ·CCD 探测器的发展 | 第17-18页 |
| ·滤光片介绍 | 第18-19页 |
| ·课题研究的意义 | 第19-20页 |
| ·研究历史和现状 | 第20-27页 |
| ·研究历史 | 第20-26页 |
| ·研究现状 | 第26-27页 |
| ·工作内容和论文结构 | 第27-29页 |
| ·工作内容 | 第27-28页 |
| ·论文结构 | 第28-29页 |
| 第二章 脉冲激光作用 CCD 及滤光片组件的基础理论 | 第29-61页 |
| ·CCD 的基本结构和工作原理 | 第29-32页 |
| ·MOS 结构及势垒分布 | 第29-30页 |
| ·CCD 工作原理 | 第30-32页 |
| ·CCD 氧化层击穿模型 | 第32-35页 |
| ·氧化层介绍 | 第32页 |
| ·氧化层击穿模型 | 第32-35页 |
| ·薄膜干涉场计算 | 第35-45页 |
| ·长脉冲激光作用下的薄膜干涉场 | 第35-37页 |
| ·超短脉冲激光作用下的薄膜干涉场 | 第37-45页 |
| ·薄膜缺陷引起的场增强效应 | 第45-55页 |
| ·节瘤缺陷引起的场增强效应 | 第45-48页 |
| ·纳米颗粒缺陷引起的场增强效应 | 第48-54页 |
| ·节瘤缺陷与纳米颗粒缺陷引起的场增强效应比较 | 第54-55页 |
| ·脉冲激光对材料损伤的理论模型 | 第55-59页 |
| ·脉冲激光对材料损伤的一般过程 | 第55-56页 |
| ·长脉冲激光作用下的温度场模型 | 第56-57页 |
| ·超短脉冲激光作用下的等离子体激发模型 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第三章 脉冲激光对 CCD 探测器的损伤效应 | 第61-92页 |
| ·实验研究 | 第61-81页 |
| ·CCD 样品及其微观结构表征 | 第61-63页 |
| ·纳秒单脉冲激光对 CCD 的损伤效应实验 | 第63-70页 |
| ·皮秒单脉冲激光对 CCD 的损伤效应实验 | 第70-73页 |
| ·飞秒单脉冲激光对 CCD 的损伤效应实验 | 第73-79页 |
| ·实验结果对比 | 第79-81页 |
| ·CCD 损伤机理 | 第81-90页 |
| ·三个损伤阶段 | 第81-85页 |
| ·脉冲激光对 CCD 材料的烧蚀 | 第85-90页 |
| ·本章总结 | 第90-92页 |
| 第四章 脉冲激光对光学薄膜的损伤效应 | 第92-127页 |
| ·实验研究 | 第92-106页 |
| ·薄膜样品 | 第92-93页 |
| ·纳秒单脉冲激光对薄膜的损伤效应实验 | 第93-97页 |
| ·皮秒单脉冲激光对薄膜的损伤效应实验 | 第97-99页 |
| ·飞秒单脉冲激光对薄膜的损伤效应实验 | 第99-102页 |
| ·多波长高重频飞秒激光对滤光片的损伤效应实验 | 第102-106页 |
| ·薄膜损伤机理 | 第106-124页 |
| ·实验结果分析 | 第106-111页 |
| ·单脉冲激光对薄膜的损伤机理 | 第111-117页 |
| ·多波长高重频飞秒激光对滤光片的损伤机理 | 第117-122页 |
| ·薄膜透过率改变机理 | 第122-124页 |
| ·本章总结 | 第124-127页 |
| 第五章 激光对探测器组件的辐照效应 | 第127-137页 |
| ·滤光片损伤后激光对 CCD 的作用 | 第127-128页 |
| ·激光经滤光片衰减后对 CCD 的饱和 | 第128-136页 |
| ·基于衍射效应的 CCD 饱和面积分析 | 第128-132页 |
| ·不同波长激光对 CCD 的饱和效应实验 | 第132-136页 |
| ·本章总结 | 第136-137页 |
| 第六章 全文总结 | 第137-141页 |
| ·主要工作与结论 | 第137-139页 |
| ·创新点 | 第139-140页 |
| ·展望 | 第140-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
| 参考文献 | 第142-154页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第154页 |