| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12-18页 |
| ·ZnO的基本结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO的光电性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO的其他特性 | 第15页 |
| ·ZnO的本征点缺陷与非故意掺杂 | 第15-16页 |
| ·ZnO的结构形态 | 第16-17页 |
| ·ZnO的应用 | 第17-18页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第18-23页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的基本性质 | 第18-19页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备技术 | 第19-21页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜及其在太阳能电池应用的研究进展 | 第21-23页 |
| ·硅太阳能电池 | 第23页 |
| ·本文的立题思路 | 第23-26页 |
| 第二章 实验设备及原理、薄膜制备过程及性能表征 | 第26-36页 |
| ·磁控溅射设备及原理 | 第26-32页 |
| ·磁控溅射设备 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-32页 |
| ·薄膜制备过程 | 第32-34页 |
| ·靶材的制备 | 第32-33页 |
| ·衬底及其清洗 | 第33页 |
| ·薄膜制备过程 | 第33-34页 |
| ·性能评价手段 | 第34-36页 |
| 第三章 磁控溅射法制备GZO薄膜研究 | 第36-48页 |
| ·溅射压强对GZO薄膜性能的影响 | 第36-39页 |
| ·XRD分析 | 第36-37页 |
| ·SEM分析 | 第37-39页 |
| ·霍尔测试分析 | 第39页 |
| ·紫外-可见-红外分光光度计测试分析 | 第39页 |
| ·溅射功率对GZO薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| ·XRD分析 | 第39-41页 |
| ·SEM分析 | 第41页 |
| ·霍尔测试分析 | 第41-42页 |
| ·退火对GZO薄膜性能的影响 | 第42-44页 |
| ·霍尔测试分析 | 第42-43页 |
| ·XRD分析 | 第43-44页 |
| ·H等离子体处理对GZO薄膜性能的影响 | 第44-45页 |
| ·表面形貌分析 | 第44-45页 |
| ·霍尔测试分析 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-48页 |
| 第四章 GZO薄膜用于晶硅太阳能电池透明电极研究 | 第48-64页 |
| ·晶硅太阳能电池简介及自制新型电池介绍 | 第49-53页 |
| ·晶硅太阳能电池及原理简介 | 第49-52页 |
| ·自制新型结构太阳能电池介绍 | 第52-53页 |
| ·GZO/Si结构的研究 | 第53-55页 |
| ·GZO薄膜退火前后性能对比 | 第53-54页 |
| ·GZO/Si结构退火前后形貌对比 | 第54-55页 |
| ·GZO/Si结构退火前后I-V特性对比 | 第55页 |
| ·Si/Al结构退火前后I-V特性对比 | 第55-56页 |
| ·新型结构晶硅电池性能 | 第56-57页 |
| ·GZO/ITO复合膜用于晶硅太阳能电池透明电极研究 | 第57-62页 |
| ·不同厚度ITO薄膜形貌研究 | 第57-58页 |
| ·GZO/ITO复合膜性能研究 | 第58-59页 |
| ·ITO和GZO、Si的接触性能研究 | 第59-61页 |
| ·不同ITO厚度的GZO/ITO复合膜用于太阳能电池透明电极研究 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 个人简历 | 第80-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第82页 |
