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光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-15页
   ·光刻技术第8-9页
   ·准分子激光光刻第9-11页
   ·极紫外光刻技术第11-13页
   ·本文的主要研究内容第13-15页
2 准分子激光器棱镜扩束系统第15-30页
   ·光刻用准分子激光的特性第15-16页
   ·光刻用准分子激光器的主要模块第16-19页
   ·棱镜扩束原理第19-21页
   ·棱镜扩束系统的ZEMAX 模型的建立第21-25页
   ·棱镜扩束系统的ZEAMX 模拟的结果第25-29页
   ·本章小结第29-30页
3 LPP 极紫外光源中的收集镜第30-38页
   ·收集镜的立体角和光源输出光展量(etendue)第32-33页
   ·收集镜面型参数的计算第33-34页
   ·椭球成像放大理论第34-37页
   ·本章小结第37-38页
4 收集镜的ZEMAX 模拟第38-51页
   ·收集镜ZEMAX 模型的建立第38-41页
   ·液滴无漂移时IF 点光斑的特性第41-45页
   ·液滴漂移时IF 点光斑的特性第45-50页
   ·本章小结第50-51页
5 总结与展望第51-53页
   ·总结第51-52页
   ·展望第52-53页
致谢第53-55页
参考文献第55-59页
附录 攻读硕士学位期间发表的论文目录第59页

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