| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-34页 |
| ·引言 | 第16-19页 |
| ·InN 的结构及性质 | 第19-23页 |
| ·InN 的结构 | 第19-20页 |
| ·InN 的性质及应用 | 第20-23页 |
| ·In_2O_3的结构及性质 | 第23-25页 |
| ·In_2O_3的结构 | 第23-24页 |
| ·In_2O_3的性质及应用 | 第24-25页 |
| ·Cu_2O 的结构及性质 | 第25-28页 |
| ·Cu_2O 的结构 | 第25-26页 |
| ·Cu_2O 的性质及应用 | 第26-28页 |
| ·CuAlO_2的结构及性质 | 第28-33页 |
| ·CuAlO_2的结构 | 第28-30页 |
| ·CuAlO_2的性质及应用 | 第30-33页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第33-34页 |
| 第二章 样品的制备及表征方法 | 第34-54页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第34-42页 |
| ·溅射镀膜的特点及主要特征参数 | 第34-35页 |
| ·辉光放电现象 | 第35-39页 |
| ·射频磁控溅射介绍 | 第39-40页 |
| ·薄膜生长过程概述 | 第40-41页 |
| ·磁控溅射设备 | 第41-42页 |
| ·旋涂法 | 第42-44页 |
| ·薄膜的结构及性能表征方法 | 第44-54页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第44-46页 |
| ·光电子能谱(XPS) | 第46-47页 |
| ·拉曼光谱 | 第47-48页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第48-50页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第50-51页 |
| ·光学特性表征 | 第51-52页 |
| ·电学特性表征 | 第52页 |
| ·磁性测量 | 第52-54页 |
| 第三章 采用 AlInN/AlN 双缓冲层沉积(002)取向的 InN 薄膜 | 第54-68页 |
| ·引言 | 第54-56页 |
| ·实验方法 | 第56-57页 |
| ·InN 薄膜的生长 | 第56-57页 |
| ·InN 薄膜的表征 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-66页 |
| ·InN 薄膜的表面形貌及横截面结构 | 第57-59页 |
| ·InN 薄膜的晶体结构 | 第59-65页 |
| ·InN 薄膜的拉曼分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第四章 氧气对 Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的影响 | 第68-80页 |
| ·引言 | 第68-70页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的生长及表征 | 第70-71页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的制备 | 第70页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的表征 | 第70-71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-78页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的表面形貌及横截面结构 | 第71-72页 |
| ·薄膜的结构 | 第72-76页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的透过率 | 第76-77页 |
| ·Ti 掺杂 In_2O_3薄膜的电学特性 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 第五章 Cu_2O/In_2O_3异质结的带阶研究 | 第80-92页 |
| ·引言 | 第80-81页 |
| ·Cu_2O/In_2O_3异质结的制备及带阶测量 | 第81-82页 |
| ·Cu_2O/In_2O_3异质结的制备 | 第81-82页 |
| ·Cu_2O/In_2O_3异质结异质结的测试 | 第82页 |
| ·结果与讨论 | 第82-91页 |
| ·Cu_2O/In_2O_3异质结的取向 | 第82-84页 |
| ·XPS 测量 Cu_2O/In_2O_3异质结的带阶 | 第84页 |
| ·XPS 分析 | 第84-87页 |
| ·体材料的价带(VB) | 第87-88页 |
| ·Cu_2O/In_2O_3异质结的能级排列 | 第88-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第六章 Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的制备及磁性分析 | 第92-103页 |
| ·引言 | 第92-93页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的制备及表征 | 第93-95页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的制备 | 第93-94页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的表征 | 第94-95页 |
| ·结果与讨论 | 第95-101页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的形貌 | 第95-96页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的结构 | 第96-99页 |
| ·Co 掺杂 CuAlO_2薄膜的磁性 | 第99-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第七章 总结与展望 | 第103-106页 |
| ·结论 | 第103-104页 |
| ·展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-118页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120页 |
