| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-16页 |
| ·研究背景 | 第7-9页 |
| ·研究现状 | 第9-12页 |
| ·高频软磁纳米颗粒膜的基本性质 | 第12-13页 |
| ·存在的问题及本文主要工作 | 第13-16页 |
| ·存在的问题 | 第13-14页 |
| ·本文的主要工作 | 第14-16页 |
| 第二章 样品的制备和表征 | 第16-32页 |
| ·实验方法介绍 | 第16-19页 |
| ·射频磁控溅射的基本原理 | 第16-17页 |
| ·溅射工艺参数的选择 | 第17-18页 |
| ·Ni_(75)Fe_(25)-ZnO薄膜的制备 | 第18-19页 |
| ·样品的表征 | 第19-32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第19-20页 |
| ·透射电镜(TEM)和电子衍射(ED) | 第20-21页 |
| ·磁力显微镜(MFM) | 第21-22页 |
| ·成份的测量 | 第22页 |
| ·台阶仪 | 第22页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第22-25页 |
| ·电性测量 | 第25页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第25-32页 |
| 第三章 Ni_(75)Fe_(25)含量对Ni_(75)Fe_(25)-ZnO高频软磁特性的影响 | 第32-42页 |
| ·Ni_(75)Fe_(25)-ZnO的结构和微结构 | 第32-33页 |
| ·X射线能量色散谱(EDX) | 第32-33页 |
| ·XRD | 第33页 |
| ·Ni_(75)Fe_(25)-ZnO颗粒膜的磁性及电阻率 | 第33-39页 |
| ·Ni_(75)Fe_(25)-ZnO颗粒膜的高频特性 | 第39-42页 |
| 第四章 溅射条件对Ni_(75)Fe_(25)-ZnO高频软磁特性的影响 | 第42-53页 |
| ·溅射压强对Ni_(75)Fe_(25)-ZnO软磁特性的影响 | 第42-43页 |
| ·基底温度对Fe_(70)Co_(30)-ZnO的磁性影响 | 第43-44页 |
| ·膜厚对Ni_(75)Fe_(25)-ZnO颗粒膜的软磁高频特性影响 | 第44-48页 |
| ·结构和微结构 | 第44-45页 |
| ·磁性 | 第45-47页 |
| ·高频特性 | 第47-48页 |
| ·(Ni_(75)Fe_(25))_(87)(ZnO)_(13)样品的高频软磁特性 | 第48-53页 |
| ·(Ni_(75)Fe_(25))_(87)(ZnO)_(13)的微结构和磁性 | 第48-51页 |
| ·(Ni_(75)Fe_(25))_(87)(ZnO)_(13)的高频特性 | 第51-53页 |
| 第五章 总结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
