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原子层沉积工艺在石墨烯上沉积高K栅介质研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-27页
   ·引言第9-10页
   ·石墨烯的概况第10-16页
     ·石墨烯的结构与性质第10-11页
     ·石墨烯的制备第11-14页
     ·石墨烯的应用第14-16页
   ·石墨烯晶体管的栅介质集成第16-25页
     ·物理气相沉积方法第17-18页
     ·物理组装方法第18-19页
     ·原子层沉积方法第19-25页
   ·本课题提出的意义、研究内容及创新点第25-27页
     ·课题提出的意义第25-26页
     ·课题的研究内容第26页
     ·课题的创新点第26-27页
第二章 石墨烯样品的制备及与表征第27-32页
   ·引言第27页
   ·石墨烯样品的制备与表征第27-31页
     ·石墨烯样品的制备第27-28页
     ·石墨烯样品的表征第28-31页
   ·本章小结第31-32页
第三章 石墨烯上高K栅介质的集成第32-48页
   ·引言第32页
   ·臭氧基(O3-BASED)ALD工艺在石墨烯上制备Al_2O_3薄膜第32-35页
   ·水基(H_2O-BASED)ALD工艺在石墨烯上制备Al_2O_3薄膜第35-41页
     ·Al_2O_3薄膜表面形貌第36-37页
     ·Al_2O_3薄膜的化学组成第37-39页
     ·拉曼光谱表征第39-40页
     ·透射电子显微镜(TEM)形貌表征33第40-41页
   ·在石墨烯上制备Al_2O_3/HFO_2叠层结构薄膜第41-45页
   ·本章小结第45-48页
第四章 石墨烯上高K栅介质薄膜的生长机理第48-57页
   ·引言第48页
   ·不同温度下HFO_2在石墨烯表面生长的情况第48-53页
   ·HFO_2在初始成核阶段的生长情况第53-55页
   ·本章小结第55-57页
第五章 总结第57-58页
参考文献第58-66页
致谢第66-67页
攻读学位期间发表的学术论文第67页

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