摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
·引言 | 第9-10页 |
·石墨烯的概况 | 第10-16页 |
·石墨烯的结构与性质 | 第10-11页 |
·石墨烯的制备 | 第11-14页 |
·石墨烯的应用 | 第14-16页 |
·石墨烯晶体管的栅介质集成 | 第16-25页 |
·物理气相沉积方法 | 第17-18页 |
·物理组装方法 | 第18-19页 |
·原子层沉积方法 | 第19-25页 |
·本课题提出的意义、研究内容及创新点 | 第25-27页 |
·课题提出的意义 | 第25-26页 |
·课题的研究内容 | 第26页 |
·课题的创新点 | 第26-27页 |
第二章 石墨烯样品的制备及与表征 | 第27-32页 |
·引言 | 第27页 |
·石墨烯样品的制备与表征 | 第27-31页 |
·石墨烯样品的制备 | 第27-28页 |
·石墨烯样品的表征 | 第28-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第三章 石墨烯上高K栅介质的集成 | 第32-48页 |
·引言 | 第32页 |
·臭氧基(O3-BASED)ALD工艺在石墨烯上制备Al_2O_3薄膜 | 第32-35页 |
·水基(H_2O-BASED)ALD工艺在石墨烯上制备Al_2O_3薄膜 | 第35-41页 |
·Al_2O_3薄膜表面形貌 | 第36-37页 |
·Al_2O_3薄膜的化学组成 | 第37-39页 |
·拉曼光谱表征 | 第39-40页 |
·透射电子显微镜(TEM)形貌表征33 | 第40-41页 |
·在石墨烯上制备Al_2O_3/HFO_2叠层结构薄膜 | 第41-45页 |
·本章小结 | 第45-48页 |
第四章 石墨烯上高K栅介质薄膜的生长机理 | 第48-57页 |
·引言 | 第48页 |
·不同温度下HFO_2在石墨烯表面生长的情况 | 第48-53页 |
·HFO_2在初始成核阶段的生长情况 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第五章 总结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第67页 |