| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| §1.1 压敏陶瓷概述 | 第9-10页 |
| §1.2 ZnO 压敏陶瓷 | 第10-16页 |
| §1.2.1 ZnO 压敏陶瓷的压敏特性及主要性能参数 | 第10-12页 |
| §1.2.2 ZnO 压敏陶瓷的显微结构 | 第12-14页 |
| §1.2.3 ZnO 压敏陶瓷在工程中的应用及原理 | 第14-16页 |
| §1.3 ZnO 压敏陶瓷的研究状况及发展趋势 | 第16-18页 |
| §1.3.1 导电机理研究 | 第16页 |
| §1.3.2 添加剂的研究 | 第16-17页 |
| §1.3.3 发展趋势 | 第17-18页 |
| §1.4 本文的研究意义和主要内容 | 第18-19页 |
| §1.4.1 本文的研究意义 | 第18页 |
| §1.4.2 主要研究内容 | 第18-19页 |
| §1.5 本文的创新点及先进性 | 第19-20页 |
| 第二章 ZnO 压敏陶瓷低压化和低温化的方法 | 第20-24页 |
| §2.1 低压化方法 | 第20-22页 |
| §2.1.1 减小ZnO 压敏陶瓷的厚度 | 第20页 |
| §2.1.2 增大ZnO 晶粒平均尺寸 | 第20-21页 |
| §2.1.3 降低单晶界层的击穿电压 | 第21-22页 |
| §2.2 低温化方法 | 第22-24页 |
| 第三章 TiO_2,V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基压敏陶瓷的制备及性能表征 | 第24-28页 |
| §3.1 TiO_2,V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷的制备工艺与方法 | 第24-26页 |
| §3.1.1 实验工艺流程 | 第24页 |
| §3.1.2 实验用主要原料和主要设备 | 第24-26页 |
| §3.2 ZnO 压敏陶瓷性能表征 | 第26-28页 |
| §3.2.1 X 射线衍射分析（XRD） | 第26页 |
| §3.2.2 扫描电子显微镜分析（SEM） | 第26页 |
| §3.2.3 陶瓷体相对密度测试 | 第26-27页 |
| §3.2.4 压敏和E-J 性能测试 | 第27页 |
| §3.2.5 介电性能测试 | 第27页 |
| §3.2.6 阻抗性能测试 | 第27-28页 |
| 第四章 TiO_2 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基压敏陶瓷的影响 | 第28-49页 |
| §4.1 引言 | 第28页 |
| §4.2 TiO_2 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷的制备及性能测试 | 第28-29页 |
| §4.3 TiO 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷的性能研究 | 第29-48页 |
| §4 3.1 TiO_2 掺杂含量对ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷结构和性能的影响 | 第30-40页 |
| §4.3.2 烧结温度对TiO_2 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷性能的影响 | 第40-46页 |
| §4.3.3 升温速率对TiO_2 掺杂ZnO-Bi_2O_3 基陶瓷性能的影响 | 第46-48页 |
| §4.4 结论 | 第48-49页 |
| 第五章 V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2 基压敏陶瓷的影响 | 第49-67页 |
| §5.1 引言 | 第49页 |
| §5.2 V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2 基陶瓷的制备及性能测试 | 第49页 |
| §5.3 烧结工艺对V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2 基压敏陶瓷性能的影响 | 第49-59页 |
| §5.3.1 烧结温度对V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2基压敏陶瓷性能的影响 | 第49-54页 |
| §5.3.2 保温时间对V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2基陶瓷性能的影响 | 第54-57页 |
| §5.3.3 升温速率对V_2O_5 掺杂ZnO-Bi_2O_3-TiO_2基陶瓷性能的影响 | 第57-59页 |
| §5 4 V_2O_5 掺杂含量对ZnO-Bi_2O_3-TiO_2 基陶瓷性能的影响 | 第59-66页 |
| §5.4.1 XRD 分析 | 第59页 |
| §5.4.2 SEM 分析 | 第59-60页 |
| §5.4.3 致密性及晶粒尺寸分析 | 第60-61页 |
| §5.4.4 压敏性能分析 | 第61-62页 |
| §5.4.5 介电性能分析 | 第62-63页 |
| §5.4.6 E-J 特性分析 | 第63-66页 |
| §5.5 结论 | 第66-67页 |
| 第六章 包裹法制备ZnO-Bi_2O_3-TiO_2-V_2O_5 基压敏陶瓷及与固相法的性能比较 | 第67-71页 |
| §6.1 引言 | 第67页 |
| §6.2 包裹法制备ZnO-Bi_2O_3-TiO_2-V_2O_5 基压敏陶瓷 | 第67页 |
| §6.3 包裹法与固相法性能参数比较 | 第67-68页 |
| §6.4 结果分析 | 第68-70页 |
| §6.4.1 XRD 分析 | 第68页 |
| §6.4.2 粒度分析 | 第68-70页 |
| §6.5 结论 | 第70-71页 |
| 第七章 总结及对后续工作的建议 | 第71-73页 |
| §7.1 总结 | 第71-72页 |
| §7.2 对后续工作的建议 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 作者在攻读硕士期间主要研究成果 | 第78页 |
