| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| ·高分子材料的光老化 | 第9-12页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·高分子对辐射的吸收 | 第10-12页 |
| ·高分子材料光稳定性的研究 | 第12-15页 |
| ·概述 | 第12页 |
| ·紫外线屏蔽剂 | 第12-13页 |
| ·紫外线吸收剂（UVA） | 第13页 |
| ·猝灭剂 | 第13-14页 |
| ·抗氧化剂 | 第14页 |
| ·受阻胺光稳定剂（HALS） | 第14-15页 |
| ·紫外线吸收剂 | 第15-20页 |
| ·概述 | 第15-16页 |
| ·紫外吸收剂的原理 | 第16页 |
| ·紫外吸收剂的种类 | 第16-20页 |
| ·二苯甲酮类紫外线吸收剂的应用 | 第20页 |
| ·含氟紫外线吸收剂分子的设计 | 第20-21页 |
| ·课题研究的意义和内容 | 第21-23页 |
| 2 基于异佛尔酮的含氟 UV-0 的合成与表征 | 第23-34页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·实验部分 | 第23-24页 |
| ·试剂及药品 | 第23页 |
| ·主要仪器及设备 | 第23-24页 |
| ·试剂的前处理 | 第24页 |
| ·分析方法的建立 | 第24-26页 |
| ·—NCO 值的测定 | 第24-25页 |
| ·接触角的测定 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-34页 |
| ·利用异氰酸基实现 UV-0 氟化的分子设计 | 第27-28页 |
| ·反应步骤的确定 | 第28-30页 |
| ·利用异氰酸基氟化 UV-0 的合成工艺条件 | 第30-32页 |
| ·接触角的测定 | 第32-34页 |
| 3 紫外吸收剂的含氟羧酸酰氯化法制备与表征 | 第34-54页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·试剂及药品 | 第34-35页 |
| ·主要仪器及设备 | 第35页 |
| ·试剂的前处理 | 第35页 |
| ·分析方法的建立 | 第35-36页 |
| ·紫外吸收的测定 | 第35-36页 |
| ·XPS 的测定 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-39页 |
| ·含四氟紫外吸收剂的合成 | 第36-37页 |
| ·含八氟的紫外吸收剂的合成 | 第37-38页 |
| ·含十二氟的紫外吸收剂的合成 | 第38-39页 |
| ·含十五氟的紫外吸收剂的合成 | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-46页 |
| ·利用含氟羧酸酰氯化合成含氟化合物分子设计思想 | 第39页 |
| ·反应条件对四氟丙醇氧化反应的影响 | 第39-43页 |
| ·反应条件对四氟丙酰氯的影响 | 第43-44页 |
| ·含四氟紫外吸收剂的合成 | 第44-46页 |
| ·其他含氟紫外吸收剂合成条件探讨 | 第46页 |
| ·含氟紫外吸收剂的性能表征 | 第46-54页 |
| ·紫外吸收性能的测定 | 第46-49页 |
| ·添加含氟紫外吸收剂涂层的 XPS 测定 | 第49-52页 |
| ·不同种类的紫外吸收剂耐老化性能探究 | 第52-54页 |
| 4 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 附录 | 第62页 |
| A. 作者在攻读硕士学位期间发表论文和申请专利的目录 | 第62页 |