| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪言 | 第9-18页 |
| ·量子化学发展背景及意义 | 第9-10页 |
| ·理论简介 | 第10-14页 |
| ·Schrodinger方程 | 第10-11页 |
| ·Hartree-Fork理论 | 第11-13页 |
| ·Post-SCF方法 | 第13页 |
| ·密度泛函DFT理论 | 第13-14页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第14-17页 |
| ·课题研究的目的 | 第17-18页 |
| 第二章 硅烯与Si-X插入反应中的立体电子效应 | 第18-46页 |
| ·硅烯与硅烷插入反应途径的选择 | 第18-23页 |
| ·协同机理 | 第18-22页 |
| ·自由基机理 | 第22-23页 |
| ·硅烷上的取代基对反应活性的影响 | 第23-35页 |
| ·硅烷上的取代基的电子效应对反应活性的影响 | 第23-29页 |
| ·硅烷上的取代基的位阻效应对反应活性的影响 | 第29-32页 |
| ·硅烷上的取代基的电子效应与位阻效应的综合考查 | 第32-33页 |
| ·对实验中观察到的氯硅烷选择性发生Si-H和Si-Cl反应的理论解释 | 第33-35页 |
| ·硅烯上的取代基对反应活性的影响 | 第35-42页 |
| ·硅烯上的取代基的电子效应对反应活性的影响 | 第36-40页 |
| ·硅烯上的取代基的位阻效应对反应活性的影响 | 第40-42页 |
| ·硅烯Si-X插入反应中的立体电子效应 | 第42-45页 |
| ·硅烯与Si-X插入反应活性的简单比较 | 第42-44页 |
| ·硅烯与Si-X插入反应的选择性 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 立体电子效应对硅烯插入反应选择性的影响 | 第46-52页 |
| ·理论计算部分 | 第46-47页 |
| ·实验部分 | 第47-50页 |
| ·四-(2,2,5,5)三甲基硅基环戊硅烯的合成 | 第48页 |
| ·硅烯与三氯硅烷的反应 | 第48-49页 |
| ·硅烯与甲基二氯硅烷的反应 | 第49页 |
| ·硅烯与二苯基氯硅烷的反应 | 第49-50页 |
| ·硅烯与二苯基二氯及苯基三氯硅烷的反应 | 第50页 |
| ·实验结果与理论计算结果的简单比较 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58页 |