| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·热释电薄膜的发展及分类 | 第9-13页 |
| ·热释电薄膜的制备技术 | 第13-16页 |
| ·溅射法（SPUTTERING） | 第14-15页 |
| ·溶胶—凝胶法（Sol—Gel） | 第15页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第16页 |
| ·热释电红外探测器的应用现状及存在的问题 | 第16-21页 |
| ·PLCT 铁电薄膜的结构及其基本性质 | 第21-24页 |
| ·PT 类铁电薄膜的晶体结构 | 第21-22页 |
| ·PLCT 铁电薄膜的应用前景及其基本性质 | 第22-24页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第24-25页 |
| 第2章 材料及制备方法 | 第25-31页 |
| ·试验材料及其制备设备 | 第25-27页 |
| ·试验材料 | 第25页 |
| ·PLCT 靶材及薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·射频磁控溅射PLCT 薄膜的工艺参数 | 第27-28页 |
| ·研究方法 | 第28-31页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第28页 |
| ·小角X 射线散射分析 | 第28-29页 |
| ·X 射线荧光光谱分析 | 第29页 |
| ·表面粗糙度原子力显微镜观察 | 第29页 |
| ·显微组织扫描电子显微镜观察 | 第29页 |
| ·残余应力测量 | 第29-30页 |
| ·铁电性能测量 | 第30-31页 |
| 第3章 (Pb,Ca,La)TiO_3靶材制备及显微结构分析 | 第31-50页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·PLCT 复合靶材的制备 | 第32-35页 |
| ·PLCT 复合靶材的显微结构及成份分析 | 第35-45页 |
| ·PCT 靶材的结晶性能和显微结构分析 | 第35-40页 |
| ·PLT 靶材的结晶性能和显微结构分析 | 第40-45页 |
| ·PLCT 复合靶材成分分析 | 第45-48页 |
| ·PCT 靶材的成分分析 | 第45-47页 |
| ·PLT 靶材的成分分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 PLCT 薄膜结晶特性及显微结构研究 | 第50-67页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·溅射用Pt/Ti/SiO_2/Si 基片的预处理 | 第50-51页 |
| ·PLCT 热释电薄膜的结晶性能研究 | 第51-59页 |
| ·退火工艺对薄膜结晶性能的影响 | 第51-54页 |
| ·掺入成分对薄膜结晶性能的影响 | 第54-56页 |
| ·溅射时间对薄膜结晶性能的影响 | 第56-58页 |
| ·溅射气压对薄膜结晶性能的影响 | 第58-59页 |
| ·PLCT 热释电薄膜的形貌分析 | 第59-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 PLCT 薄膜残余应力分析及铁电性能研究 | 第67-77页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·薄膜残余应力的掠入射X 射线分析 | 第67-69页 |
| ·PLCT 薄膜不同工艺条件下的残余应力分析 | 第69-74页 |
| ·PLCT 铁电薄膜的电滞回线测试 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第84页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第84页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |