| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 引论 | 第13-29页 |
| ·真空紫外反射镜发展现状 | 第13-22页 |
| ·金属膜 | 第13-15页 |
| ·复合膜和介质膜 | 第15-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| ·本课题的目的和预期 | 第22页 |
| ·本课题的目的 | 第22页 |
| ·本课题的预期 | 第22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-23页 |
| ·本论文构成 | 第23-29页 |
| 第2章 真空紫外反射镜膜厚优化及反射率计算 | 第29-56页 |
| ·光学薄膜设计一般方法 | 第29-36页 |
| ·概述 | 第29页 |
| ·薄膜光学的一些重要公式 | 第29-33页 |
| ·光学薄膜计算方法 | 第33-36页 |
| ·金属薄膜光学原理概述 | 第36-44页 |
| ·真空紫外反射镜膜厚优化及反射率计算 | 第44-56页 |
| ·Au膜反射率优化计算 | 第44-47页 |
| ·Ir膜反射率优化计算 | 第47-49页 |
| ·Al+MgF_2膜反射率优化计算 | 第49-56页 |
| 第3章 真空紫外反射镜制作 | 第56-106页 |
| ·实验用材及设备概述 | 第56-59页 |
| ·Au反射镜制作 | 第59-82页 |
| ·概述 | 第59-60页 |
| ·镀膜条件 | 第60-61页 |
| ·基片、膜厚、辅源和镀前清洗工艺对Au膜真空紫外反射率影响 | 第61-69页 |
| ·基片表面粗糙度对Au膜真空紫外反射率影响 | 第69-73页 |
| ·过渡层对Au膜真空紫外反射率影响 | 第73-77页 |
| ·离子束清洗对基片和薄膜表面粗糙度的影响 | 第77-80页 |
| ·Au膜相关结论 | 第80-82页 |
| ·IR反射镜制作 | 第82-92页 |
| ·概述 | 第82-83页 |
| ·离子束溅射Ir膜反射率 | 第83-88页 |
| ·电子束蒸发Ir膜反射率 | 第88-90页 |
| ·两种镀膜方式比较 | 第90-91页 |
| ·与Au膜比较 | 第91页 |
| ·Ir膜相关结论 | 第91-92页 |
| ·AL+MGF2反射镜制作 | 第92-106页 |
| ·概述 | 第92-94页 |
| ·测试结果 | 第94-96页 |
| ·原因分析 | 第96-98页 |
| ·结论 | 第98-106页 |
| 第4章 反射率计误差分析及解决办法 | 第106-122页 |
| ·反射率计结构及工作原理概述 | 第106-108页 |
| ·反射率计测试误差源分析 | 第108-116页 |
| ·光源 | 第108-112页 |
| ·探测器 | 第112-113页 |
| ·反射率计光轴与样品转动中心不重合 | 第113页 |
| ·样品安装 | 第113-115页 |
| ·入射光斑尺寸 | 第115-116页 |
| ·减少和消除误差办法 | 第116-119页 |
| ·对光源 | 第116-117页 |
| ·对探测器 | 第117-118页 |
| ·对反射率计光轴与样品转动中心不重合 | 第118页 |
| ·样品安装 | 第118页 |
| ·入射光斑尺寸 | 第118-119页 |
| ·提高反射率计测试效率和精度的建议 | 第119-122页 |
| 第5章 光学基片表面评价新方法初探 | 第122-145页 |
| ·概述 | 第122-127页 |
| ·MFS方法简介 | 第127-130页 |
| ·计算结果及分析 | 第130-134页 |
| ·小结 | 第134-145页 |
| 第6章 论文的工作总结与展望 | 第145-149页 |
| ·论文的工作总结 | 第145-147页 |
| ·论文的主要创新点 | 第147页 |
| ·建议及有待改进的问题 | 第147-148页 |
| ·展望 | 第148-149页 |
| 附录1 椭圆偏振光反射率R计算式推导 | 第149-154页 |
| 附录2 常见材料在真空紫外波段光学常数 | 第154-155页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第155-157页 |
| 致谢 | 第157-158页 |