| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 前言 | 第10-42页 |
| ·卟啉衍生物的研究进展 | 第10-16页 |
| ·卟啉衍生物的结构和性质 | 第10-11页 |
| ·卟啉衍生物的合成 | 第11-14页 |
| ·卟啉衍生物的应用 | 第14-16页 |
| ·现代成膜技术 | 第16-31页 |
| ·化学自组装膜技术 | 第16-17页 |
| ·蒸发镀膜技术 | 第17-18页 |
| ·分子束外延技术 | 第18页 |
| ·旋转涂膜技术 | 第18-19页 |
| ·Langmuir-Blodgett成膜技术 | 第19-31页 |
| ·LB膜结构和形貌的常用表征方法 | 第31-39页 |
| ·表面压-面积(π-A)等温曲线 | 第31-32页 |
| ·紫外-可见(UV-vis)分光光度法 | 第32页 |
| ·小角X射线衍射(SXRD) | 第32-33页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第33页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第33-39页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第39-42页 |
| ·选题依据 | 第39-40页 |
| ·研究内容 | 第40-42页 |
| 第2章 实验部分 | 第42-46页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第42-43页 |
| ·实验仪器 | 第42页 |
| ·主要实验试剂 | 第42-43页 |
| ·实验方法 | 第43-46页 |
| ·基片的预处理及旋转涂膜的制备 | 第43-44页 |
| ·π-A等温曲线的测定及LB膜的制备 | 第44-45页 |
| ·玻碳电极的预处理及修饰电极的制备 | 第45-46页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第46-91页 |
| ·5,10,15-三对氯苯基-20-邻(α-氧基硬脂酸)苯基卟啉(TSPP)LB膜的性质研究 | 第46-63页 |
| ·TSPP的合成 | 第46-47页 |
| ·TSPP在气/液界面上的行为分析与表征 | 第47-51页 |
| ·TSPP旋转涂膜及其LB膜的原子力显微镜表征及分析 | 第51-59页 |
| ·TSPP LB膜的紫外-可见吸收光谱表征及分析 | 第59-61页 |
| ·TSPP LB膜的小角X射线衍射表征及分析 | 第61-63页 |
| ·5,10,15-三对氯苯基-20-邻(6-氯三甘基)苯基卟啉(TOPP)LB膜的性质研究 | 第63-77页 |
| ·TOPP的合成 | 第63-64页 |
| ·TOPP在气/液界面上的行为分析与表征 | 第64-68页 |
| ·TOPP旋转涂膜及其LB膜的原子力显微镜表征及分析 | 第68-74页 |
| ·TOPP LB膜的紫外-可见吸收光谱表征及分析 | 第74-75页 |
| ·TOPP的循环伏安行为研究 | 第75-77页 |
| ·5,10,15-三对氯苯基-20-邻(6-氯三甘基)苯基卟啉合铜(TOPPCu(Ⅱ))LB膜的性质研究 | 第77-91页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)的合成 | 第77-78页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)在气/液界面上的行为分析与表征 | 第78-81页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)旋转涂膜及其LB膜的原子力显微镜表征及分析 | 第81-85页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)LB膜的紫外-可见吸收光谱表征及分析 | 第85-86页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)的循环伏安行为研究 | 第86-89页 |
| ·TOPPCu(Ⅱ)LB膜的纳米刻蚀 | 第89-91页 |
| 第4章 结论 | 第91-94页 |
| 参考文献 | 第94-104页 |
| 硕士期间已发表及待发表的文章 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105页 |
