电弧离子镀氮化铬涂层的组织结构及性能研究
| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·防护涂层及其应用 | 第8-9页 |
| ·硬质涂层材料及其发展趋势 | 第9-14页 |
| ·硬质耐磨涂层分类 | 第10-11页 |
| ·硬质耐磨涂层性能评价 | 第11-13页 |
| ·硬质涂层发展趋势 | 第13-14页 |
| ·硬质涂层制备方法 | 第14-21页 |
| ·CVD 法制备硬质涂层 | 第14-15页 |
| ·PVD 法制备硬质涂层 | 第15-21页 |
| ·真空蒸镀 | 第15-16页 |
| ·溅射镀膜 | 第16页 |
| ·离子镀 | 第16-21页 |
| ·本论文目的和研究内容 | 第21-24页 |
| 第二章 涂层制备与实验方法 | 第24-30页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·涂层制备 | 第24-26页 |
| ·基片镀前预处理 | 第24页 |
| ·镀膜设备 | 第24-26页 |
| ·涂层沉积 | 第26页 |
| ·显微结构分析 | 第26-27页 |
| ·涂层微观组织形貌观察 | 第26页 |
| ·涂层厚度及沉积速度 | 第26-27页 |
| ·涂层结构及相分析 | 第27页 |
| ·涂层成分分析 | 第27页 |
| ·涂层力学性能测试 | 第27-30页 |
| ·涂层硬度测试 | 第27-28页 |
| ·涂层结合强度测试 | 第28-29页 |
| ·涂层摩擦磨损性能实验 | 第29-30页 |
| 第三章 脉冲偏压在CrN 涂层沉积过程中的作用 | 第30-52页 |
| ·镀前轰击对CrN 涂层的影响 | 第30-32页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层的影响 | 第32-49页 |
| ·沉积的工艺参数 | 第32-33页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层表面形貌的影响 | 第33-36页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层的沉积速率的影响 | 第36-38页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层的结构的影响 | 第38-42页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层的成分的影响 | 第42-43页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层硬度的影响 | 第43-45页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层结合强度的影响 | 第45-48页 |
| ·脉冲偏压对CrN 涂层摩擦系数的影响 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-52页 |
| 第四章 氮气压强在CrN 涂层沉积过程中的作用 | 第52-66页 |
| ·沉积的工艺参数 | 第52-53页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层的沉积速率的影响 | 第54-55页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层的结构的影响 | 第55-58页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层的成分的影响 | 第58-59页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层硬度的影响 | 第59-60页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层结合强度的影响 | 第60-62页 |
| ·氮气压强对CrN 涂层摩擦系数的影响 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第五章 弧电流在CrN 涂层沉积过程中的作用 | 第66-78页 |
| ·沉积的工艺参数 | 第66页 |
| ·弧电流对CrN 涂层的表面形貌的影响 | 第66-67页 |
| ·弧电流对CrN 涂层的沉积速率的影响 | 第67-68页 |
| ·弧电流对CrN 涂层的结构影响 | 第68-71页 |
| ·弧电流对CrN 涂层的成分的影响 | 第71-72页 |
| ·弧电流对CrN 涂层硬度的影响 | 第72-73页 |
| ·弧电流对CrN 涂层结合强度的影响 | 第73-75页 |
| ·弧电流对CrN 涂层摩擦系数的影响 | 第75-76页 |
| ·小结 | 第76-78页 |
| 第六章 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 摘要 | 第84-87页 |
| ABSTRACT | 第87-91页 |
| 致 谢 | 第91-93页 |
| 导师及作者简介 | 第93页 |
