| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| 1．1 钛合金在航空工业中的应用及存在的问题 | 第9-11页 |
| 1．2 钛合金表面耐磨技术研究现状 | 第11-14页 |
| 1．3 提高钛合金微动损伤抗力的表面处理技术研究进展 | 第14-18页 |
| 1．3．1 表面机械形变强化处理—喷丸强化 | 第14-15页 |
| 1．3．2 表面改性处理 | 第15-16页 |
| 1．3．3 表面涂层处理 | 第16-17页 |
| 1．3．4 各表面处理技术的比较 | 第17-18页 |
| 1．4 离子束辅助沉积(IBAD)技术及其应用 | 第18-22页 |
| 1．4．1 IBAD原理 | 第19-20页 |
| 1．4．2 IBAD工艺特点 | 第20页 |
| 1．4．3 IBAD薄膜的组织与性能 | 第20-21页 |
| 1．4．4 IBAD工艺过程的影响因素 | 第21页 |
| 1．4．5 IBAD膜层的应用 | 第21-22页 |
| 1．5 非平衡磁控溅射离子镀技术简介 | 第22-24页 |
| 1．6 本文的研究背景及目的 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 试验方法及研究内容 | 第29-44页 |
| 2．1 试验材料与试样 | 第29-30页 |
| 2．2 膜层制备方法 | 第30-33页 |
| 2．2．1 离子束辅助沉积(IBAD)膜层制备 | 第30-32页 |
| 2．2．1．1 IBAD镀膜设备 | 第30-31页 |
| 2．2．1．2 IBAD镀膜工艺 | 第31-32页 |
| 2．2．1．3 靶材制备 | 第32页 |
| 2．2．2 封闭场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMS)MoS_2基膜工艺 | 第32-33页 |
| 2．3 膜层性能分析评价方法 | 第33-40页 |
| 2．3．1 膜层组织结构的研究方法 | 第33-34页 |
| 2．3．2 膜层的厚度测量及形貌观察 | 第34页 |
| 2．3．3 膜层的结合强度测试 | 第34-35页 |
| 2．3．4 膜层的硬度测定 | 第35-37页 |
| 2．3．5 膜层的韧性测定 | 第37-39页 |
| 2．3．6 膜层的摩擦磨损性能评价 | 第39-40页 |
| 2．3．7 膜层的抗腐蚀性能测定 | 第40页 |
| 2．4 研究内容 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第二章 钛合金表面离子束辅助沉积合金膜层及其性能研究 | 第44-76页 |
| 3．1 IBAD铬及铬钼合金膜层性能研究 | 第44-49页 |
| 3．1．1 IBAD制备Cr、CrMo膜层工艺 | 第44-45页 |
| 3．1．2 膜层结构分析与性能评价 | 第45-49页 |
| 3．1．2．1 膜层形态与结构 | 第45-46页 |
| 3．1．2．2 膜层元素沿深度分布及膜基结合强度 | 第46页 |
| 3．1．2．3 膜层的硬度利韧性 | 第46-47页 |
| 3．1．2．4 膜层摩擦学性能 | 第47-48页 |
| 3．1．2．5 膜层电化学腐蚀特性 | 第48-49页 |
| 3．2 IBAD不锈钢膜层及其性能研究 | 第49-56页 |
| 3．2．1 IBAD制备0Cr18Ni9膜层工艺 | 第50页 |
| 3．2．2 膜层结构分析与性能评价 | 第50-56页 |
| 3．2．2．1 膜层形态与结构 | 第50-51页 |
| 3．2．2．2 膜层元素沿深度分布及膜基结合强度 | 第51-52页 |
| 3．2．2．3 膜层的硬度和韧性 | 第52-53页 |
| 3．2．2．4 膜层摩擦学性能 | 第53-55页 |
| 3．2．2．5 膜层电化学腐蚀特性 | 第55-56页 |
| 3．3 IBAD NiCr合金膜层及其性能研究 | 第56-61页 |
| 3．3．1 IBAD NiCr20膜层制备工艺 | 第56页 |
| 3．3．2 膜层结构分析与性能评价 | 第56-61页 |
| 3．3．2．1 膜层形态与结构 | 第56-57页 |
| 3．3．2．2 膜层元素沿深度分布及膜基结合强度 | 第57-58页 |
| 3．3．2．3 膜层的硬度和韧性 | 第58-59页 |
| 3．3．2．4 膜层摩擦学性能 | 第59-60页 |
| 3．3．2．5 膜层电化学腐蚀特性 | 第60-61页 |
| 3．4 IBAD镍-铜合金膜层及其性能研究 | 第61-67页 |
| 3．4．1 IBAD CuNi合金膜层制备工艺及界面工艺研究方法 | 第61页 |
| 3．4．2 CuNi62和CuNi38膜层结构分析与性能评价 | 第61-66页 |
| 3．4．2．1 膜层形态与结构 | 第61-62页 |
| 3．4．2．2 膜层元素沿深度分布及膜基结合强度 | 第62-64页 |
| 3．4．2．3 膜层的硬度和韧性 | 第64-65页 |
| 3．4．2．4 膜层摩擦学性能 | 第65-66页 |
| 3．4．2．5 膜层电化学腐蚀特性 | 第66页 |
| 3．4．3 界面制备工艺对结合强度影响的研究 | 第66-67页 |
| 3．5 IBAD铝青铜合金膜层及其性能研究 | 第67-72页 |
| 3．5．1 IBAD QAl9-4制备膜层工艺 | 第68页 |
| 3．5．2 膜层结构分析与性能评价 | 第68-72页 |
| 3．5．2．1 膜层形态与结构 | 第68页 |
| 3．5．2．2 膜层元素沿深度分布及膜基结合强度 | 第68-69页 |
| 3．5．2．3 膜层的硬度和韧性 | 第69-70页 |
| 3．5．2．4 膜层摩擦学性能 | 第70页 |
| 3．5．2．5 膜层电化学腐蚀特性 | 第70-72页 |
| 3．6 本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 第四章 钛合金表面减摩非金属膜层的研究 | 第76-91页 |
| 4．1 IBAD类石墨碳膜及性能 | 第77-82页 |
| 4．1．1 IBAD类石墨碳膜制备 | 第77页 |
| 4．1．2 IBAD类石墨碳膜性能 | 第77-82页 |
| 4．1．2．1 膜层形貌、组成及硬度 | 第77-78页 |
| 4．1．2．2 膜层元素沿深度分布、膜基结合强度及韧性 | 第78-79页 |
| 4．1．2．3 膜层摩擦学性能 | 第79-81页 |
| 4．1．2．4 膜层电化学腐蚀特性 | 第81-82页 |
| 4．2 CFUBMS MoST膜层及性能 | 第82-88页 |
| 4．2．1 CFUBMS MoST膜层制备工艺简介 | 第83-84页 |
| 4．2．2 CFUBMS MoST膜层性能 | 第84-88页 |
| 4．2．2．1 膜层形貌、组成及硬度 | 第84-85页 |
| 4．2．2．2 膜层元素沿深度分布、膜基结合强度及韧性 | 第85-86页 |
| 4．2．2．3 膜层摩擦学性能 | 第86-87页 |
| 4．2．2．4 膜层电化学腐蚀特性 | 第87-88页 |
| 4．3 本章小结 | 第88页 |
| 参考文献 | 第88-91页 |
| 第五章 主要结论 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第94-95页 |
