| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-16页 |
| ·高聚物／层状硅酸盐纳米复合材料 | 第7-14页 |
| ·概述 | 第7页 |
| ·蒙脱土的组成与结构 | 第7-8页 |
| ·近年蒙脱土插层方法总结 | 第8-12页 |
| ·高聚物／蒙脱土纳米复合材料制备方法 | 第12-13页 |
| ·高聚物／蒙脱土纳米复合材料的结构 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状与展望 | 第14页 |
| ·本文研究思路与内容 | 第14-16页 |
| ·选择不同的插层剂 | 第15页 |
| ·MC尼龙／蒙脱土复合材料制备与结构表征 | 第15页 |
| ·尼龙66／蒙脱土复合材料制备、结构及热力学性能表征 | 第15-16页 |
| 2 蒙脱土的层间修饰 | 第16-32页 |
| ·CTAB-有机蒙脱土合成条件研究及结构表征 | 第16-21页 |
| ·实验部分 | 第16页 |
| ·结果与讨论 | 第16-20页 |
| ·合成条件研究 | 第16-18页 |
| ·XRD图谱分析 | 第18-19页 |
| ·红外光谱分析 | 第19-20页 |
| ·差热分析 | 第20页 |
| ·结论 | 第20-21页 |
| ·硅烷偶联剂KH-550-蒙脱土的制备与合成条件研究 | 第21-25页 |
| ·实验部分 | 第21页 |
| ·偶联蒙脱土(KH-550-MMT)的制备 | 第21页 |
| ·结果与讨论 | 第21-24页 |
| ·合成条件研究 | 第21-23页 |
| ·红外谱图分析表征 | 第23-24页 |
| ·XRD图谱分析 | 第24页 |
| ·结论 | 第24-25页 |
| ·CTAB、KH-550-有机蒙脱土的制备与表征 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第25页 |
| ·CTAB、KH-550-有机蒙脱土的制备 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25页 |
| ·红外谱图分析表征 | 第25页 |
| ·结论 | 第25-26页 |
| ·二聚阳离子表面活性剂改性蒙脱土 | 第26-32页 |
| ·实验部分 | 第26-27页 |
| ·二聚阳离子表面活性剂的合成 | 第26页 |
| ·有机蒙脱土的制备 | 第26页 |
| ·亲油性试验 | 第26页 |
| ·产物的沉降实验分析 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-31页 |
| ·核磁共振谱图 | 第27页 |
| ·XRD谱图分析 | 第27-28页 |
| ·结构模型 | 第28页 |
| ·紫外吸收光谱图 | 第28-29页 |
| ·分散性实验 | 第29-30页 |
| ·TGA分析 | 第30-31页 |
| ·结论 | 第31-32页 |
| 3 铸型尼龙纳米复合材料的制备及其结构表征 | 第32-38页 |
| ·前言 | 第32-34页 |
| ·MC尼龙6合成原理及具体实验步骤 | 第32-34页 |
| ·有机蒙脱土的选择 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·Mc尼龙及其复合材料的的制备 | 第34页 |
| ·甲酸溶解实验 | 第34-35页 |
| ·性能测试与表征 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-37页 |
| ·XRD图谱分析 | 第35-36页 |
| ·甲酸溶解实验 | 第36-37页 |
| ·结论 | 第37-38页 |
| 4 尼龙66／蒙脱土纳米复合材料的制备及结构性能表征 | 第38-44页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·熔融插层的原理 | 第38页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·实验原料、加工设备及型号 | 第38页 |
| ·样条的制备 | 第38页 |
| ·性能测试与表征 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·力学性能 | 第39-40页 |
| ·拉伸强度测试 | 第39页 |
| ·冲击强度测试 | 第39-40页 |
| ·TG图谱分析 | 第40-41页 |
| ·XRD图谱分析 | 第41-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 全文总结 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
