| 第一章 绪论 | 第1-15页 |
| ·IMS技术概述 | 第8页 |
| ·IMS技术的发展历程 | 第8-13页 |
| ·IMS大气压下空气的离化 | 第9-11页 |
| ·IMS技术的发展 | 第11-13页 |
| ·本文概述 | 第13-15页 |
| 第二章 离子迁移谱仪简介 | 第15-23页 |
| ·离子迁移谱仪(IMS)的总体介绍 | 第15-16页 |
| ·IMS核心部件迁移管的结构 | 第16-19页 |
| ·仪器设计中应注意的问题 | 第19-23页 |
| 第三章 IMS理论 | 第23-29页 |
| ·离子在迁移管中运动所受到的力及其影响 | 第23-25页 |
| ·扩散作用 | 第23-24页 |
| ·电场的影响 | 第24-25页 |
| ·迁移率 | 第25-26页 |
| ·离子分子之间的相互作用模型 | 第26-29页 |
| ·The Rigid-Sphere Model | 第27页 |
| ·The Polarization-Limit Model | 第27-28页 |
| ·The 12,4Hard-Core Potential Model | 第28-29页 |
| 第四章 迁移管内的离子-分子反应 | 第29-35页 |
| ·反应物离子的形成过程 | 第29-32页 |
| ·正反应物离子的形成过程 | 第29-31页 |
| ·负反应物离子的形成过程 | 第31-32页 |
| ·产物离子的形成过程 | 第32-34页 |
| ·正产物离子的形成过程 | 第33页 |
| ·负产物离子的形成过程 | 第33-34页 |
| ·总结 | 第34-35页 |
| 第五章 气压变化导致的谱线位置校正 | 第35-40页 |
| ·气压校正的基本原理 | 第35-36页 |
| ·气压校正的过程 | 第36-37页 |
| ·一般情况下的气压校正 | 第36-37页 |
| ·绝对气压校正 | 第37页 |
| ·理论和实验的对比以及温度和电场的漂移对谱线位置的影响 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第六章 迁移管内电场的均匀性对IMS分辨率的影响 | 第40-48页 |
| ·分辨率理论 | 第40-44页 |
| ·实验装置 | 第44页 |
| ·结果与分析 | 第44-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 第七章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
