改性碳纳米管及其场发射性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-33页 |
| ·纳米材料与碳纳米管 | 第10-12页 |
| ·纳米材料 | 第10页 |
| ·碳纳米管 | 第10-12页 |
| ·场发射平板显示器 | 第12-16页 |
| ·未来的平板显示器 | 第12-13页 |
| ·场发射显示器 | 第13-16页 |
| ·碳纳米管在场发射方面的应用 | 第16-21页 |
| ·碳纳米管场发射显示器 | 第16-18页 |
| ·微波放大器 | 第18-20页 |
| ·其他应用 | 第20-21页 |
| ·碳纳米管场发射机理 | 第21-27页 |
| ·场发射能量分布 | 第21-24页 |
| ·逸出功 | 第24页 |
| ·场发射机理 | 第24-26页 |
| ·碳纳米管发射的衰减 | 第26页 |
| ·关于场发射机理的展望 | 第26-27页 |
| ·本论文的工作 | 第27页 |
| 参考文献 | 第27-33页 |
| 第二章 实验设备的建立、碳纳米管的制备和表征 | 第33-52页 |
| ·多功能超高真空系统 | 第33-35页 |
| ·系统结构 | 第33-35页 |
| ·主要技术指标 | 第35页 |
| ·碳纳米管阴极的制备 | 第35-40页 |
| ·丝网印刷场发射阴极的制备 | 第36-37页 |
| ·低频等离子体增强化学汽相沉积 | 第37-39页 |
| ·高频等离子体增强化学汽相沉积 | 第39-40页 |
| ·特殊形态碳纳米管的生长 | 第40-47页 |
| ·在纳米管上生长纳米管--Y-junction? | 第41-42页 |
| ·带刺的碳纳米管 | 第42-47页 |
| ·场发射性能测试 | 第47-48页 |
| ·成分和结构表征 | 第48-50页 |
| ·碳纳米管的表面形貌 | 第48页 |
| ·碳纳米管的微结构 | 第48-49页 |
| ·碳纳米管的相成分 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第三章 丝网印刷碳纳米管膜场发射性能的改性研究 | 第52-67页 |
| ·等离子体处理的碳纳米管膜的发射性能 | 第52-56页 |
| ·氨等离子体处理 | 第53-54页 |
| ·氮、氢等离子体处理 | 第54-56页 |
| ·等离子体处理的碳纳米管的结构表征 | 第56-61页 |
| ·微结构及其形成机理 | 第56-59页 |
| ·红外谱测试 | 第59-60页 |
| ·Raman光谱表征 | 第60-61页 |
| ·等离子体处理改善发射性能的机理 | 第61-63页 |
| ·瘤状碳纳米管在场发射中的作用 | 第61-62页 |
| ·发射机制随处理时间的变化 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第四章 PECVD碳纳米管的改性及其场发射性能 | 第67-87页 |
| ·表面涂铪改善碳纳米管发射性能 | 第67-72页 |
| ·提高发射性能的一些方法 | 第67-68页 |
| ·铪膜涂层及退火对碳纳米管膜发射性能的影响 | 第68-70页 |
| ·HfC在提高碳纳米管发射性能上的作用 | 第70-72页 |
| ·衬底-碳纳米管接触在场发射过程中的作用 | 第72-79页 |
| ·碳纳米管发射的两个过程--双势垒模型 | 第72-73页 |
| ·不同衬底上生长的碳纳米管的发射性能 | 第73-76页 |
| ·衬底-碳纳米管接触在场发射过程中的作用 | 第76-79页 |
| ·F-N曲线的弯折 | 第79-83页 |
| ·目前关于F-N曲线弯折的解释 | 第79-81页 |
| ·衬底-碳纳米管结隧穿机制的变化 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第五章 CNT-FED器件设计与制作 | 第87-110页 |
| ·器件制作一般工艺 | 第87-90页 |
| ·阴极制作 | 第87-88页 |
| ·阳极制作 | 第88页 |
| ·支撑结构 | 第88页 |
| ·封装 | 第88-89页 |
| ·真空度的维持 | 第89-90页 |
| ·二极管结构CNT-FED的制作 | 第90-91页 |
| ·大面积均匀发射阴极 | 第90页 |
| ·字符显示器件 | 第90-91页 |
| ·彩色CNT-FED | 第91页 |
| ·三极管结构CNT-FED的制作 | 第91-95页 |
| ·独立栅及其弹性支撑方案 | 第92-93页 |
| ·阴极、栅极引线和阳极 | 第93-95页 |
| ·3×3矩阵选址FED样管 | 第95页 |
| ·晶体管控制CNT-FED | 第95-108页 |
| ·真空微电子与半导体微电子 | 第96-97页 |
| ·CNT-FED发射稳定性和可控性问题 | 第97-101页 |
| ·器件结构设计 | 第101-103页 |
| ·器件制作 | 第103-105页 |
| ·器件电学性能测试 | 第105-108页 |
| ·本章小结 | 第108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第六章 总结 | 第110-112页 |
| 附录 | 第112页 |
| 攻读博士期间发表的论文目录 | 第112-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 个人简历 | 第115-116页 |
