中文摘要 | 第1-7页 |
英文摘要 | 第7-14页 |
第一章 绪论 | 第14-42页 |
§1.1引言 | 第14-15页 |
§1.2铝电解电容器的结构特征及其比容特性 | 第15-19页 |
§1.3铝电解电容器用阳极箔的比容 | 第19-20页 |
§1.4高比表面积铝电极箔制造技术及其研究进展 | 第20-30页 |
1.4.1 高比表面积铝电极箔制造技术简介 | 第20-23页 |
1.4.2 高比表面积铝电极箔制造技术的理论研究进展 | 第23-27页 |
1.4.3 高比表面积铝电极箔制造技术的工艺研究进展 | 第27-30页 |
§1.5电化学测试、分析技术及小波分析在腐蚀机理研究中的应用 | 第30-34页 |
1.5.1 电化学稳态及非稳态测试技术 | 第30-31页 |
1.5.2 电化学非稳态测试信号的分析技术 | 第31-33页 |
1.5.3 小波分析及其在电化学检测中的应用 | 第33-34页 |
§1.6高介电常数铝氧化膜制造技术及发展 | 第34-37页 |
1.6.1 铝电解电容器的电介质层 | 第34-35页 |
1.6.2 高介电常数铝氧化膜制造技术研究进展 | 第35-37页 |
§1.7本论文的选题及结构体系 | 第37-42页 |
1.7.1 高比容铝电极箔制造技术发展及研究概况 | 第37-39页 |
1.7.2 目前高比容铝电极箔理论研究急需解决的几个问题 | 第39-40页 |
1.7.3 本论文的选题及结构体系 | 第40-42页 |
第二章 高纯铝点蚀机理研究 | 第42-70页 |
§2.1引言 | 第42页 |
§2.2金属的点蚀 | 第42-45页 |
2.2.1 金属的点蚀及其产生原因 | 第42-44页 |
2.2.2 金属点蚀的电化学特性 | 第44-45页 |
§2.3电化学噪声检测的基本原理 | 第45-49页 |
2.3.1 电化学噪声检测技术及其优点 | 第45-46页 |
2.3.2 电化学噪声的来源 | 第46-48页 |
2.3.3 电化学噪声在金属点蚀行为研究中的应用 | 第48-49页 |
§2.4电化学噪声的小波包子带能量表征方法 | 第49-53页 |
2.4.1 小波变换及其联合时频分析特性 | 第50-51页 |
2.4.2 小波包的定义及其对频带的分割 | 第51-52页 |
2.4.3 小波包分解子频带能量特征向量 | 第52-53页 |
§2.5高纯铝在及混酸体系中的电化学噪声特征 | 第53-63页 |
2.5.1 电化学噪声信号测试系统 | 第53-55页 |
2.5.2 样品制备及测试体系 | 第55-56页 |
2.5.3 测试结果 | 第56-59页 |
2.5.4 高纯铝电化学噪声信号的功率谱密度(PSD)特征 | 第59-61页 |
2.5.5 高纯铝电化学噪声信号的小波包子带能量谱特征 | 第61-63页 |
§2.6高纯铝在及混酸体系中的点蚀机理 | 第63-69页 |
2.6.1 电化学电流噪声的理论模型 | 第63-65页 |
2.6.2 蚀核萌生机制 | 第65-67页 |
2.6.3 蚀孔的生长过程 | 第67-69页 |
§2.7本章小结 | 第69-70页 |
第三章 铝电极箔交流腐蚀机理研究 | 第70-94页 |
§3.1引言 | 第70页 |
§3.2金属在交流电作用下的腐蚀 | 第70-74页 |
3.2.1 交流电对金属腐蚀电化学特性的影响 | 第71-72页 |
3.2.2 交流电对高纯铝点蚀行为的影响 | 第72-74页 |
§3.3高纯铝三角波动电位极化研究 | 第74-80页 |
3.3.1 实验方法 | 第74-75页 |
3.3.2 蚀孔萌生时的三角波动电位扫描电流响应曲线 | 第75-76页 |
3.3.3 蚀孔生长时的三角波动电位扫描电流响应曲线 | 第76-78页 |
3.3.4 蚀孔生长时三角波动电位扫描电流响应信号的小波时频分析 | 第78-80页 |
§3.4氧空位输运侵蚀模型 | 第80-82页 |
3.4.1 氧空位输运侵蚀模型 | 第80-81页 |
3.4.2 氧空位输运侵蚀模型对有关实验现象的解释 | 第81-82页 |
§3.5高纯铝变频交流腐蚀动力学机制初探 | 第82-91页 |
3.5.1 实验方法及结果 | 第83页 |
3.5.2 交流变频腐蚀电流信号的小波包时频表征 | 第83-85页 |
3.5.3 交流变频腐蚀动力学机制初探 | 第85-86页 |
3.5.4 交流变频腐蚀动力学机制中动力学参数的测量 | 第86-88页 |
3.5.5 高纯铝交流变频腐蚀时的影响 | 第88-91页 |
§3.6高纯铝点蚀过程中的缓蚀机理 | 第91-93页 |
§3.7本章小结 | 第93-94页 |
第四章 铝电极箔交流腐蚀工艺研究 | 第94-110页 |
§4.1引言 | 第94页 |
§4.2理论扩面倍率的计算机模拟计算 | 第94-102页 |
4.2.1 已有的理论扩面倍率的计算模型 | 第94-98页 |
4.2.2 理论扩面倍率的模拟计算 | 第98-102页 |
§4.3交流发孔工艺与直流发孔工艺对比性研究 | 第102-105页 |
§4.4交流发孔腐蚀工艺研究 | 第105-108页 |
4.4.1 浓度对腐蚀箔比容的影响 | 第105-106页 |
4.4.2 浓度对腐蚀箔比容的影响 | 第106-107页 |
4.4.3 腐蚀液温度对腐蚀箔比容的影响 | 第107页 |
4.4.4 初始电流密度对腐蚀箔比容的影响 | 第107-108页 |
4.4.5 交流发孔工艺参数的优化 | 第108页 |
§4.5本章小结 | 第108-110页 |
第五章 高介电常数复合介质膜生长技术研究 | 第110-141页 |
§5.1引言 | 第110页 |
§5.2通过化学转化膜技术提高铝电极箔比容研究 | 第110-119页 |
5.2.1 磷酸—铬酸处理法 | 第111-112页 |
5.2.2 胺类溶液处理法 | 第112-116页 |
5.2.3 磷酸—铬酸或胺类溶液处理过程中或的形成机理 | 第116-119页 |
§5.3通过复合高介电常数阀金属氧化物提高铝电极箔比容研究 | 第119-140页 |
5.3.1 工艺路线分析 | 第119-121页 |
5.3.2 铝电解电容器试制品试验及结果 | 第121-123页 |
5.3.3 高介电常数阀金属复合氧化膜的微观分析及表征 | 第123-128页 |
5.3.4 存在高介电常数阀金属复合氧化膜情况下的阳极氧化过程 | 第128-129页 |
5.3.5 高介电常数阀金属复合氧化膜的介电常数 | 第129-130页 |
5.3.6 纳米尺度复合材料的介电行为 | 第130-133页 |
5.3.7 高介电常数阀金属复合氧化膜介电行为研究 | 第133-140页 |
§5.4本章小结 | 第140-141页 |
第六章 结论与展望 | 第141-145页 |
§6.1本论文的主要结论 | 第141-143页 |
§6.2本论文的主要创新点 | 第143页 |
§6.3前景展望 | 第143-145页 |
参考文献 | 第145-156页 |
致谢 | 第156-157页 |
附录 | 第157-161页 |
1 攻读博士学位期间已发表和待发表的学术论文及所申请专利 | 第157-159页 |
2 攻读博士学位期间所获奖励 | 第159页 |
3 个人简历 | 第159-160页 |
4 科技查新报告与国家知识产权局对专利申请的初审合格通知书 | 第160-161页 |
5 专利申请技术转让后媒体关注情况 | 第161页 |