| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-16页 |
| 1．1 引言 | 第7页 |
| 1．2 传感器技术的发展动向 | 第7-8页 |
| 1．3 微机电系统（MEMS）与微型制造技术 | 第8-11页 |
| 1．4 真空微电子传感器的国内外研究概况 | 第11-14页 |
| 1．5 本课题研究的意义 | 第14-15页 |
| 1．6 本论文研究的内容 | 第15-16页 |
| 2 真空微电子加速度传感器的结构和工作原理 | 第16-31页 |
| 2．1 引言 | 第16页 |
| 2．2 几种不同原理的硅微加速度传感器比较 | 第16-21页 |
| 2．2．1 硅微压阻式加速度传感器 | 第16-17页 |
| 2．2．2 硅微压电式加速度传感器 | 第17-18页 |
| 2．2．3 硅微电容式加速度传感器 | 第18-19页 |
| 2．2．4 硅微隧道式加速度传感器 | 第19-21页 |
| 2．3 真空微电子加速度传感器的结构及工作原理 | 第21-23页 |
| 2．4 真空微电子加速度传感器的特点 | 第23页 |
| 2．5 真空微电子加速度传感器系统的传递函数 | 第23-25页 |
| 2．6 真空微电子加速度传感器的相关基础理论 | 第25-31页 |
| 2．6．1 场致发射（FieldElectronEmission） | 第25-27页 |
| 2．6．2 场致发射规律符合Fowler-Nordheim公式 | 第27-29页 |
| 2．6．3 牛顿第二运动定律 | 第29-31页 |
| 3 真空微电子加速度传感器的理论分析与计算 | 第31-52页 |
| 3．1 引言 | 第31页 |
| 3．2 有限元分析的基础理论 | 第31-36页 |
| 3．2．1 静力学分析的有限元基础理论 | 第31-34页 |
| 3．2．2 模态分析的有限元基础理论 | 第34页 |
| 3．2．3 谐响应分析的有限元基础理论 | 第34-36页 |
| 3．3 真空微电子加速度传感器的力学特性分析 | 第36-48页 |
| 3．3．1 静力学分析 | 第36-39页 |
| 3．3．2 静力学计算结果的回归分析 | 第39-44页 |
| 3．3．3 模态分析 | 第44-45页 |
| 3．3．4 模态计算结果的分析 | 第45-47页 |
| 3．3．5 谐响应分析 | 第47-48页 |
| 3．4 真空微电子加速度传感器的电学特性分析 | 第48-52页 |
| 3．4．1 阴极锥尖到阳极膜之间的距离与发射电流密度的关系 | 第48-49页 |
| 3．4．2 阴极锥尖到阳极膜之间的距离与锥尖阵列发射电流的关系 | 第49-50页 |
| 3．4．3 加速度与锥尖阵列发射电流的关系 | 第50页 |
| 3．4．4 计算机模拟结果的分析与讨论 | 第50-52页 |
| 4 真空微电子加速度传感器的工艺设计与版图设计 | 第52-62页 |
| 4．1 引言 | 第52页 |
| 4．2 工艺方案分析 | 第52-53页 |
| 4．3 锥尖成形技术 | 第53-56页 |
| 4．3．1 KOH溶液对硅的各向异性腐蚀机理 | 第53-54页 |
| 4．3．2 硅锥尖的氧化锐化 | 第54-56页 |
| 4．4 “多掩膜－无掩膜”腐蚀技术 | 第56-58页 |
| 4．5 工艺设计 | 第58-59页 |
| 4．5．1 材料的选取 | 第58页 |
| 4．5．2 工艺流程 | 第58-59页 |
| 4．6 光刻掩膜版图设计 | 第59-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 附：作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第67页 |
