| 第一章 绪论 | 第1-22页 |
| 1．1 铝的阳极氧化 | 第11-13页 |
| 1．1．1 硬质阳极氧化 | 第11页 |
| 1．1．2 瓷质阳极氧化 | 第11-12页 |
| 1．1．3 复合阳极氧化 | 第12页 |
| 1．1．4 高速高效阳极氧化 | 第12-13页 |
| 1．2 微弧氧化技术 | 第13页 |
| 1．3 铝表面电化学沉积陶瓷膜（EDCF）技术 | 第13-20页 |
| 1．3．1 电化学沉积陶瓷膜技术的起源 | 第14-15页 |
| 1．3．2 电化学沉积陶瓷膜（EDCF）技术的工艺方法及EDCF膜层性能、特性 | 第15-18页 |
| 1．3．3 电化学沉积陶瓷膜组成成份、形貌及结构特性 | 第18-19页 |
| 1．3．4 电化学陶瓷成膜与常规阳极氧化膜的比较 | 第19-20页 |
| 1．3．5 电化学沉积陶瓷膜技术的成膜机理分析 | 第20页 |
| 1．3．6 电化学沉积陶瓷膜（EDCF）技术的应用 | 第20页 |
| 1．4 铝及其合金表面电化学陶瓷化处理的课题选择 | 第20-22页 |
| 第二章 铝在有机羧酸体系中电化学陶瓷成膜（EDCF）表面强化处理的工艺研究 | 第22-40页 |
| 2．1 实验方法及条件 | 第22-23页 |
| 2．2 膜层性能检测 | 第23-24页 |
| 2．2．1 外观检测 | 第23页 |
| 2．2．2 膜层厚度 | 第23页 |
| 2．2．3 显微硬度 | 第23页 |
| 2．2．4 耐蚀性能 | 第23-24页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第24-38页 |
| 2．3．1 铝在有机羧酸混合体系中的阳极氧化曲线 | 第24-25页 |
| 2．3．2 电解液组成及浓度对膜层性能的影响 | 第25-33页 |
| 2．3．3 电解工艺参数对膜层性能的影响 | 第33-37页 |
| 2．3．4 基体合金元素对膜层性能的影响 | 第37-38页 |
| 2．4 结论 | 第38-40页 |
| 第三章 铸铝、硬铝合金电化学陶瓷成膜表面强化处理的工艺研究 | 第40-53页 |
| 3．1 实验方法及条件 | 第41-42页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第42-51页 |
| 3．2．1 ZL108铝合金在有机羧酸复合电解液体系中的阳极氧化曲线 | 第42-43页 |
| 3．2．2 电解液组成及浓度对膜层性能的影响 | 第43-46页 |
| 3．2．3 电解工艺参数对膜层性能的影响 | 第46-51页 |
| 3．3 结论 | 第51-53页 |
| 第四章 铸铝、硬铝EDCF膜层成分、形貌及结构分析 | 第53-63页 |
| 4．1 实验方法及条件 | 第53页 |
| 4．1．1 膜层成分分析 | 第53页 |
| 4．1．2 膜层结构分析 | 第53页 |
| 4．1．3 膜层形貌分析 | 第53页 |
| 4．2 结果与讨论 | 第53-62页 |
| 4．2．1 膜层组成元素分析 | 第53-56页 |
| 4．2．2 膜层XRD相分析 | 第56页 |
| 4．2．3 膜层表面形貌分析 | 第56-59页 |
| 4．2．4 膜层横截面SEM分析 | 第59-61页 |
| 4．2．5 与刘建平制备的HVA膜及侯朝辉制得的HVAD膜的比较 | 第61-62页 |
| 4．3 结论 | 第62-63页 |
| 第五章 铸铝EDCF膜层成膜机理的研究 | 第63-73页 |
| 5．1 实验方法及条件 | 第63页 |
| 5．2 结果与讨论 | 第63-71页 |
| 5．2．1 铸铝ZL108在15个不同体系中的稳态伏安曲线分析 | 第63-66页 |
| 5．2．2 铸铝在不同体系中的暂态阳极极化曲线分析 | 第66-69页 |
| 5．2．3 铸铝在复合体系中的膜层微观形貌及形成过程分析 | 第69-70页 |
| 5．2．4 铸铝EDCF膜层形成机理初探 | 第70-71页 |
| 5．3 结论 | 第71-73页 |
| 第六章 电化学沉积陶瓷膜技术的中试工艺研究 | 第73-76页 |
| 6．1 中试实验方法及条件 | 第73页 |
| 6．2 工艺方法 | 第73-75页 |
| 6．2．1 试件前处理 | 第73-74页 |
| 6．2．2 电解质溶液组成及浓度 | 第74页 |
| 6．2．3 电解工艺参数的确定 | 第74-75页 |
| 6．3 结论 | 第75-76页 |
| 第七章 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
