三阶非线性光学材料—聚酰亚胺的微波辐射合成及其成膜性研究
| 第一章 文献综述 | 第1-18页 |
| 一 微波辐射技术在化学领域的应用 | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第7页 |
| 2 微波技术在有机合成方面的应用 | 第7页 |
| 3 微波辐射在聚合反应方面的应用 | 第7-8页 |
| 二 缩聚型聚酰亚胺的分子设计与合成 | 第8-9页 |
| 三 三阶非线性光学材料 | 第9-14页 |
| 1 三阶非线性光学材料的要求 | 第10页 |
| 2 三阶非线性光学材料的进展 | 第10-14页 |
| 四 聚合物膜材料的制备 | 第14-15页 |
| 1 引言 | 第14页 |
| 2 材料的成膜性对其结构的要求 | 第14页 |
| 3 成膜的方法 | 第14-15页 |
| 五 本论文研究的目的、意义及内容 | 第15-18页 |
| 1本论文的目的和意义 | 第15-16页 |
| 2 本论文的内容 | 第16-18页 |
| 第二章 聚酰亚胺的微波辐射聚合 | 第18-41页 |
| 2．1 实验和分析方法 | 第18-20页 |
| 2．1．1 主要原料 | 第18页 |
| 2．1．2 实验装置和设备 | 第18-20页 |
| 2．1．3 分析方法 | 第20页 |
| 2．2 STDN-PMDA聚合体系 | 第20-29页 |
| 2．2．1 实验步骤 | 第20-21页 |
| 2．2．2 合成路线 | 第21-22页 |
| 2．2．3 STDN-PMDA体系聚合物光谱分析 | 第22-23页 |
| 2．2．4 结果与讨论 | 第23-29页 |
| 2．3 DAAQ-PMDA聚合体系 | 第29-41页 |
| 2．3．1 实验步骤 | 第29-30页 |
| 2．3．2 合成路线 | 第30页 |
| 2．3．3． DAAQ-PMDA体系聚合物的表征 | 第30页 |
| 2．3．4 结果与讨论 | 第30-38页 |
| 2．3．5 非线性光学响应的理论分析 | 第38-41页 |
| 第三章 三阶非线性光学薄膜的制备 | 第41-55页 |
| 3．1 引言 | 第41页 |
| 3．2 主要原料 | 第41页 |
| 3．3 STDN-0DA-PMDA的三元共缩聚 | 第41-46页 |
| 3．3．1 实验步骤 | 第41-42页 |
| 3．3．2 合成路线 | 第42-43页 |
| 3．3．3 共聚物的结构表征 | 第43-44页 |
| 3．3．4 结果与讨论 | 第44-46页 |
| 3．4 BGA-PMDA体系PAA的接枝 | 第46-50页 |
| 3．4．1 实验步骤 | 第46-47页 |
| 3．4．2 合成路线 | 第47页 |
| 3．4．3 聚合物的结构表征 | 第47-48页 |
| 3．4．4 结果与讨论 | 第48-50页 |
| 3．5 DAAQ-PMDA体系PAA的接枝共聚 | 第50-55页 |
| 3．5．1 实验步骤 | 第50-51页 |
| 3．5．2 合成路线 | 第51页 |
| 3．5．3 聚合物的表征与结构鉴定 | 第51-52页 |
| 3．5．4 结果与讨论 | 第52-55页 |
| 第四章 结论与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 已录用或发表的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65-74页 |
