脉冲阴极弧放电制备纳米薄膜的研究

摘要	第1-7页
ABSTRACT	第7-10页
引言	第10-11页
第一章 阴极真空弧放电及其在镀膜中的应用	第11-19页
第一节 阴极电弧的发展及其特征	第11-13页
第二节 电弧离子镀技术概述	第13-16页
第三节 脉冲偏压电弧离子镀技术的发展现状	第16-18页
第四节 小结	第18-19页
第二章 实验装置	第19-29页
第一节 高压脉冲大电流电源的组成结构	第19-25页
第二节 触发装置的设计	第25-27页
第三节 真空制膜系统	第27-28页
第四节 小结	第28-29页
第三章 脉冲阴极弧放电制备碳氮纳米薄膜	第29-37页
第一节 直流辉光放电触发脉冲阴极弧离子镀	第29-31页
第二节 高压电火器触发脉冲阴极弧离子镀	第31-36页
第三节 小结	第36-37页
第四章 制备参数对薄膜性质的影响	第37-55页
第一节 脉冲偏压对薄模表面形貌的影响	第37-43页
第二节 磁过滤弯管中带电粒子的数值分析与计算	第43-54页
第三节 小结	第54-55页
第五章 磁控溅射法制备金纳米薄膜的研究	第55-60页
第一节 金纳米薄膜的制备	第55-56页
第二节 金纳米薄膜透过光谱的测量与分析	第56-57页
第三节 金纳米薄膜吸收光谱的研究	第57-59页
第四节 小结	第59-60页
第六章 结论与展望	第60-62页
参考文献	第62-65页
攻读学位期间发表的学术论文	第65-66页
致谢	第66页