| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·铁电体的发展历程 | 第10-13页 |
| ·铁电薄膜概述 | 第13-19页 |
| ·铁电薄膜简介 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜材料 | 第14-16页 |
| ·铁电薄膜制备技术 | 第16-19页 |
| ·铁电存储器简介 | 第19-23页 |
| ·铁电存储器的基本结构形式 | 第19-22页 |
| ·铁电存储器现状 | 第22-23页 |
| ·本文的选题依据和主要研究内容 | 第23-26页 |
| ·选题依据 | 第23-24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 BNT 铁电薄膜的制备和测试 | 第26-40页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·CSD 法制备薄膜的基本原理与所用设备 | 第26-29页 |
| ·Sol-Gel、MOD 和CSD 薄膜制备方法简介 | 第26-27页 |
| ·CSD 法制备薄膜的基本原理 | 第27-28页 |
| ·CSD 法制备薄膜所用设备 | 第28-29页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·基片的选取和处理 | 第29-30页 |
| ·化学药品和试剂 | 第30页 |
| ·BNT 铁电薄膜的制备工艺过程 | 第30-35页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第31-32页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第32-35页 |
| ·薄膜的测试与分析 | 第35-40页 |
| ·微观结构 | 第35-36页 |
| ·电学性能 | 第36-40页 |
| 第三章 BNT 铁电薄膜组分纵向分布及化学态 | 第40-52页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·薄膜物相分析 | 第40-41页 |
| ·BNT 薄膜的表面形貌 | 第41-43页 |
| ·BNT 薄膜的铁电性能 | 第43-44页 |
| ·BNT 薄膜的元素纵向分布 | 第44-45页 |
| ·BNT 薄膜表层元素分布及化学态 | 第45-48页 |
| ·BNT/Pt 界面层元素分布及化学态 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 Zr 离子掺杂对BNT 铁电薄膜性能的影响 | 第52-61页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·BNTZ_x 薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·BNTZ_x 薄膜的微观结构 | 第53-54页 |
| ·BNTZ_x 薄膜的铁电性能 | 第54-55页 |
| ·BNTZ_x 薄膜的I-V 特性 | 第55-57页 |
| ·BNTZ_x 薄膜的居里温度 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第61-63页 |
| ·论文总结 | 第61页 |
| ·工作展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第69页 |