| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 第一章 序言 | 第7-16页 |
| ·等离子体基础理论 | 第7-12页 |
| ·等离子体源离子注入技术 | 第12-14页 |
| ·国内外关于 PSII 的研究进展 | 第14-15页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第15-16页 |
| 第二章 PSII 过程中鞘层演化的计算方法 | 第16-23页 |
| ·解析方法 | 第16-17页 |
| ·流体动力学方法 | 第17-19页 |
| ·蒙特·卡罗（Monte carlo）方法 | 第19-20页 |
| ·Particle-in-Cell(PIC)方法 | 第20-21页 |
| ·小结 | 第21-23页 |
| 第三章 环形样品 PSII 过程中鞘层的数值模拟 | 第23-27页 |
| ·计算机模型 | 第23-24页 |
| ·计算方法 | 第24-27页 |
| 第四章 计算机模拟结果及讨论 | 第27-42页 |
| ·鞘层中电势等位线的演化 | 第27-28页 |
| ·鞘层边界的演化 | 第28-29页 |
| ·鞘层中离子密度的分布 | 第29-30页 |
| ·鞘层中离子运动的状态 | 第30-39页 |
| ·离子注入剂量的分布 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第五章 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 致谢 | 第46页 |