摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-8页 |
第一章 前言 | 第8-22页 |
·发光材料概述 | 第8-14页 |
·发光材料概述 | 第8页 |
·发光材料的发光机理 | 第8-12页 |
·发光材料的种类 | 第12-14页 |
·发光材料常用的表征手段 | 第14-16页 |
·X射线衍射 | 第14-15页 |
·透射电子显微镜 | 第15-16页 |
·扫描电子显微镜 | 第16页 |
·分子荧光分析法 | 第16页 |
·钒酸钇(YVO_4)的结构 | 第16-17页 |
·钒酸钇发光材料的研究现状 | 第17-20页 |
·本论文的研究目的、研究内容及研究意义 | 第20-22页 |
·研究目的 | 第20页 |
·研究内容 | 第20-21页 |
·研究意义 | 第21-22页 |
第二章 白光发光材料YVO_4:Ga~(3+)的制备及发光性能研究 | 第22-33页 |
·引言 | 第22页 |
·实验试剂、实验仪器及制备方法 | 第22-23页 |
·实验试剂 | 第22页 |
·实验仪器 | 第22-23页 |
·制备方法 | 第23页 |
·测试分析与表征方法 | 第23-24页 |
·结果与讨论 | 第24-30页 |
·XRD谱图分析 | 第24-26页 |
·镓不同掺杂浓度的钒酸钇发光材料XRD图谱分析 | 第24-25页 |
·不同煅烧温度的钒酸钇发光材料的XRD图谱分析 | 第25-26页 |
·SEM图谱分析 | 第26-27页 |
·Ga~(3+)掺杂浓度对YVO_4:Ga~(3+)发光性能的影响 | 第27-29页 |
·煅烧温度对YVO_4:Ga~(3+)发光性能的影响 | 第29-30页 |
·发光机理探究 | 第30-31页 |
·本章小结 | 第31-33页 |
第三章 发光材料YVO_4:Cd~(2+)的制备及发光性能探究 | 第33-44页 |
·引言 | 第33页 |
·实验试剂、实验仪器及制备方法 | 第33-34页 |
·实验试剂 | 第33页 |
·实验仪器及表征设备 | 第33-34页 |
·实验方案 | 第34页 |
·表征方法 | 第34-35页 |
·X射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第35页 |
·荧光光谱(PL) | 第35页 |
·结果与讨论 | 第35-42页 |
·X射线衍射 | 第35-37页 |
·镉离子不同掺杂浓度的钒酸钇粉体的X射线衍射 | 第35-36页 |
·不同煅烧温度下YVO_4:Cd~(2+)的X射线衍射 | 第36-37页 |
·扫描电镜 | 第37-38页 |
·荧光光谱分析 | 第38-42页 |
·掺杂浓度对YVO_4:Cd~(2+)发光强度的影响 | 第38-40页 |
·煅烧温度对YVO_4:Cd~(2+)发光强度的影响 | 第40-42页 |
·发光机理初步讨论 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第四章 YVO_4:Bi~(3+)发光材料的制备及其光学性能研究 | 第44-57页 |
·引言 | 第44页 |
·实验试剂、实验仪器及实验方法 | 第44-45页 |
·实验试剂 | 第44页 |
·实验仪器 | 第44-45页 |
·实验方法 | 第45页 |
·测试表征手段 | 第45-46页 |
·X射线衍射法 | 第45-46页 |
·扫描电子显微镜 | 第46页 |
·紫外分析仪 | 第46页 |
·荧光光谱分析法 | 第46页 |
·结果与讨论 | 第46-55页 |
·X射线衍射 | 第46-48页 |
·铋离子不同掺杂浓度钒酸钇样品的X射线衍射 | 第46-47页 |
·铋掺杂钒酸钇在不同煅烧温度下的X射线衍射 | 第47-48页 |
·扫描电镜 | 第48-49页 |
·荧光光谱 | 第49-55页 |
·铋离子掺杂浓度对YVO_4:Bi~(3+)发光强度的影响 | 第49-52页 |
·铋离子不同掺杂浓度下的激发光谱分析 | 第49-50页 |
·不同掺杂浓度的YVO_4:Bi~(3+)发射光谱的分析 | 第50-52页 |
·煅烧温度对材料YVO_4:Bi~(3+)发光强度的影响 | 第52-54页 |
·激发电压的不同对样品YVO_4:Bi~(3+)发光强度的影响 | 第54-55页 |
·发光机理探究 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第五章 结论 | 第57-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
攻读硕士期间的科研成果 | 第66-68页 |