| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·硬质薄膜的分类 | 第11-13页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第11-12页 |
| ·多元化合物硬质薄膜 | 第12页 |
| ·微结构强化硬质薄膜 | 第12-13页 |
| ·硬质纳米多层膜 | 第13-14页 |
| ·纳米多层膜的强化机制 | 第14-18页 |
| ·模量差理论 | 第14-16页 |
| ·Hall-Petch 强化理论 | 第16-17页 |
| ·交变应力场理论 | 第17-18页 |
| ·纳米多层膜中晶体生长的模板效应与非晶晶化 | 第18-22页 |
| ·纳米多层膜的生长 | 第18页 |
| ·稳定相的共格外延生长 | 第18-19页 |
| ·亚稳相的外延生长稳定化 | 第19-20页 |
| ·非晶相外延强制晶化 | 第20-22页 |
| ·碳化钒硬质薄膜 | 第22-26页 |
| ·碳化物薄膜 | 第22页 |
| ·碳化钒薄膜 | 第22-26页 |
| ·本论文的研究内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 2 薄膜的制备与检测 | 第30-40页 |
| ·镀膜设备及原理 | 第30-34页 |
| ·镀膜设备 | 第30页 |
| ·溅射原理 | 第30-34页 |
| ·薄膜检测设备与检测方法 | 第34-39页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第35页 |
| ·能量散射光谱仪(EDS) | 第35页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第35-36页 |
| ·纳米力学探针（Nanoindenter） | 第36-37页 |
| ·薄膜的硬度测量－两步压入法 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 3 反应溅射碳化钒薄膜的制备、微结构与力学性能 | 第40-50页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-48页 |
| ·成分与微结构 | 第41-46页 |
| ·力学性能 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 4 VC/Si3N4 和V2C/Si3N4纳米多层膜的生长结构与力学性能 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·薄膜的制备 | 第50-52页 |
| ·VC/Si3N4纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第52-56页 |
| ·V2C/Si3N4纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第56-60页 |
| ·讨论 | 第60-61页 |
| ·多层膜的生长 | 第60页 |
| ·多层膜的力学性能 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 5 总结 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第66-68页 |