| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| ·课题来源和目的意义 | 第9-11页 |
| ·Bi_20_3 光催化剂的研究现状 | 第11-14页 |
| ·Bi_20_3 的结构与性质 | 第11-12页 |
| ·Bi_20_3 的主要应用领域 | 第12-13页 |
| ·Bi_20_3 光催化反应机理 | 第13-14页 |
| ·Bi_20_3 的禁带宽度 | 第14页 |
| ·提高Bi_20_3 光催化活性的途径 | 第14-19页 |
| ·掺杂改性 | 第15-16页 |
| ·复合氧化物光催化剂 | 第16-18页 |
| ·表面光敏化 | 第18-19页 |
| ·Bi_20_3 薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19页 |
| ·热氧化法 | 第19-20页 |
| ·喷雾热解法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第22-28页 |
| ·实验药品与仪器 | 第22-24页 |
| ·实验药品 | 第22页 |
| ·实验的主要仪器 | 第22-23页 |
| ·浸渍提拉制膜设备 | 第23页 |
| ·光催化实验设备 | 第23-24页 |
| ·实验方法 | 第24-28页 |
| ·基片的预处理 | 第24页 |
| ·浸渍提拉 | 第24-25页 |
| ·目标降解物的选择 | 第25页 |
| ·测试表征手段 | 第25-26页 |
| ·Bi_20_3 薄膜光催化性能评价 | 第26-28页 |
| 第3章 溶胶-凝胶法制备Bi_20_3薄膜 | 第28-39页 |
| ·Bi_20_3 溶胶的制备 | 第28-30页 |
| ·前躯体浓度临界点的确定 | 第28页 |
| ·有机添加剂对溶胶体系的影响 | 第28-30页 |
| ·反应温度对溶胶体系的影响 | 第30页 |
| ·Bi_20_3 薄膜的制备工艺研究 | 第30-38页 |
| ·提拉速度对膜层质量的影响 | 第30-31页 |
| ·退火温度对膜层性能的影响 | 第31-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 Bi_20_3薄膜的掺杂改性研究 | 第39-62页 |
| ·La~(3+)掺杂对Bi_20_3 薄膜性能的影响 | 第39-46页 |
| ·La~(3+)掺杂对Bi_20_3 薄膜光催化性能的影响 | 第39-40页 |
| ·La~(3+)掺杂Bi_20_3 薄膜的表面形貌分析 | 第40-41页 |
| ·La~(3+)掺杂Bi_20_3 薄膜的结构组成分析 | 第41-43页 |
| ·La~(3+)掺杂Bi_20_3 薄膜光学性能分析 | 第43-44页 |
| ·La~(3+)掺杂Bi_20_3 薄膜降解罗丹明B的化学动力学分析 | 第44-46页 |
| ·V_20_5 对Bi_20_3 的复合改性研究 | 第46-53页 |
| ·V_20_5 改性Bi_20_3 薄膜光催化性能研究 | 第46-47页 |
| ·V_20_5 改性Bi_20_3 薄膜表面形貌研究 | 第47-48页 |
| ·V_20_5 改性Bi_20_3 薄膜表面结构组成研究 | 第48-50页 |
| ·V_20_5 改性Bi_20_3 薄膜光学性能研究 | 第50-51页 |
| ·V_20_5 改性Bi_20_3 薄膜反应动力学研究 | 第51-53页 |
| ·C0_30_4 对Bi_20_3 复合改性研究 | 第53-59页 |
| ·C0_30_4 改性Bi_20_3 薄膜的光催化性能研究 | 第53-54页 |
| ·C0_30_4 改性Bi_20_3 薄膜的表面形貌分析 | 第54-55页 |
| ·C0_30_4 改性Bi_20_3 薄膜的结构组成分析 | 第55-56页 |
| ·C0_30_4 改性Bi_20_3 薄膜的光性能分析 | 第56-58页 |
| ·C0_30_4 改性Bi_20_3 薄膜的反应动力学分析 | 第58-59页 |
| ·不同改性方法的比较 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
