半导体材料的磁性及高压相变的研究
致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
目录 | 第10-13页 |
1 ZnO基稀磁半导体材料及其研究进展 | 第13-37页 |
·稀磁半导体的发展概述 | 第13-19页 |
·稀磁半导体的基本概念和物理性能 | 第13-14页 |
·稀磁半导体的应用现状与前景 | 第14-15页 |
·稀磁半导体的研究现状 | 第15-19页 |
·ZnO基稀磁半导体的研究进展 | 第19-26页 |
·ZnO的简介 | 第19页 |
·ZnO基稀磁半导体的制备 | 第19-21页 |
·ZnO基稀磁半导体的研究现状 | 第21-26页 |
·ZnO基稀磁半导体的磁性机理 | 第26-36页 |
·ZnO基稀磁半导体中的第二相 | 第26-28页 |
·载流子调节的铁磁性交换作用 | 第28-31页 |
·缺陷调节的铁磁性交换作用 | 第31-36页 |
·本论文的研究内容 | 第36-37页 |
2 掺钻氧化锌磁性机理的研究 | 第37-49页 |
·引言 | 第37-38页 |
·样品制备及测试 | 第38页 |
·实验结果与讨论 | 第38-47页 |
·样品表征及磁性测量 | 第38-42页 |
·XPS结果分析 | 第42页 |
·XANES和EXAFS结果分析 | 第42-44页 |
·吸收光谱和第一性原理计算结果分析 | 第44-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
3 钴镓共掺氧化锌磁性机理的研究 | 第49-67页 |
·引言 | 第49-50页 |
·样品制备及测试 | 第50-53页 |
·钴镓共掺ZnO的制备 | 第50-51页 |
·第一性原理计算 | 第51-53页 |
·实验结果与讨论 | 第53-66页 |
·样品表征及磁性测量 | 第53-58页 |
·XPS结果分析 | 第58-59页 |
·EXAFS结果分析 | 第59-62页 |
·第一性原理计算结果分析 | 第62-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
4 掺镓氧化锌薄膜磁性机理的研究 | 第67-81页 |
·引言 | 第67-68页 |
·样品制备及测试 | 第68-69页 |
·薄膜样品制备及测试 | 第68-69页 |
·第一性原理计算 | 第69页 |
·实验结果与讨论 | 第69-80页 |
·样品表征及磁性测量 | 第69-71页 |
·XPS结果分析 | 第71-73页 |
·PL结果分析 | 第73-74页 |
·第一性原理计算结果分析 | 第74-80页 |
·本章小结 | 第80-81页 |
5 纳米氧化锌的高压相变路径研究 | 第81-97页 |
·前言 | 第81-84页 |
·纳米材料高压相变的研究意义 | 第81-82页 |
·纳米氧化锌高压相变路径的研究进展及意义 | 第82-84页 |
·样品制备及测试 | 第84-86页 |
·ZnO纳米棒的制备 | 第84-85页 |
·高压实验 | 第85页 |
·第一性原理计算 | 第85-86页 |
·实验结果与讨论 | 第86-95页 |
·高压实验结果分析 | 第86-89页 |
·第一性原理计算结果分析 | 第89-95页 |
·本章小结 | 第95-97页 |
6 纳米二氧化锡的高压相变研究 | 第97-111页 |
·引言 | 第97-98页 |
·样品制备及测试表征 | 第98-101页 |
·纳米二氧化锡的制备 | 第98-99页 |
·样品表征 | 第99页 |
·高压实验 | 第99-101页 |
·实验结果与讨论 | 第101-109页 |
·高压相变实验结果 | 第101-103页 |
·状态方程 | 第103-104页 |
·晶粒尺寸对相变压力的影响 | 第104页 |
·热力学理论探索 | 第104-107页 |
·相变压力与能带之间的关系 | 第107-109页 |
·本章小结 | 第109-111页 |
7 总结 | 第111-113页 |
参考文献 | 第113-145页 |
攻读学位期间论文发表及专利申请 | 第145页 |