| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 课题背景和研究意义 | 第9-11页 |
| 1.2 纳米银颗粒的制备方法现状分析 | 第11-13页 |
| 1.3 印制电子中纳米银烧结工艺现状分析 | 第13-19页 |
| 1.4 印制电子中纳米银材料应用现状 | 第19-22页 |
| 1.5 论文的主要研究内容 | 第22-24页 |
| 2 实验材料和研究方法 | 第24-36页 |
| 2.1 纳米银合成实验材料与设备 | 第24-25页 |
| 2.2 纳米银颗粒的表征方法 | 第25-28页 |
| 2.3 纳米银室温烧结制样与电性能表征 | 第28-34页 |
| 2.4 微笔直写设备的印制表征 | 第34-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 3 化学还原法制备单分散纳米银材料 | 第36-46页 |
| 3.1 纳米银颗粒的制备方法 | 第36-37页 |
| 3.2 纳米银的生长机理分析 | 第37-39页 |
| 3.3 单分散纳米银的微观形貌分析 | 第39-42页 |
| 3.4 PVP与纳米银的包覆界面分析 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 4 单分散纳米银颗粒合成的参数控制 | 第46-58页 |
| 4.1 紫外可见光光谱分析 | 第46-47页 |
| 4.2 反应温度对纳米银颗粒合成影响 | 第47-50页 |
| 4.3 硝酸银浓度对纳米银颗粒合成的影响 | 第50-53页 |
| 4.4 硝酸银和PVP质量比对纳米银颗粒合成的影响 | 第53-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 5 纳米银室温下化学烧结的工艺研究 | 第58-68页 |
| 5.1 室温下化学烧结机理分析 | 第58-59页 |
| 5.2 纳米银室温下化学烧结过程分析 | 第59-60页 |
| 5.3 纳米银室温烧结中的工艺参数研究 | 第60-63页 |
| 5.4 纳米银的直写印制和导电性能表征 | 第63-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 6 全文总结与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 全文总结 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第78页 |