| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 二氧化硅的简介 | 第15-17页 |
| 1.1.1 二氧化硅结构及特点 | 第15-16页 |
| 1.1.2 二氧化硅的应用及研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2 消光剂的简介 | 第17-20页 |
| 1.2.1 消光剂的消光原理 | 第18-19页 |
| 1.2.2 工业消光剂的种类 | 第19-20页 |
| 1.3 二氧化硅消光剂消光性能影响因素 | 第20-23页 |
| 1.3.1 二氧化硅自身性质的影响 | 第21-22页 |
| 1.3.2 外部因素的影响 | 第22-23页 |
| 1.4 二氧化硅消光剂的改性方法和改性机理 | 第23-24页 |
| 1.5 二氧化硅消光剂的市场需求及国内外生产现状 | 第24-26页 |
| 1.5.1 国内二氧化硅消光剂生产概况 | 第25页 |
| 1.5.2 国外二氧化硅消光剂产品概况 | 第25-26页 |
| 1.6 微分散反应器简介 | 第26-27页 |
| 1.7 本文的研究内容及意义 | 第27-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-37页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第29-30页 |
| 2.2 二氧化硅的粉碎分级实验 | 第30-31页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第31页 |
| 2.3 二氧化硅的扩孔实验 | 第31-32页 |
| 2.4 二氧化硅的表面改性实验 | 第32-35页 |
| 2.4.1 改性方法及改性剂 | 第33页 |
| 2.4.2 改性效果测定 | 第33-35页 |
| 2.5 微分散反应器制备二氧化硅实验 | 第35-36页 |
| 2.5.1 实验装置 | 第35-36页 |
| 2.5.2 实验步骤 | 第36页 |
| 2.6 实验数据表征与分析 | 第36-37页 |
| 第三章 二氧化硅的粉碎、分级及扩孔实验研究 | 第37-45页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 二氧化硅的粉碎、分级实验 | 第37-40页 |
| 3.2.1 斯托克斯方程计算分级颗粒粒径 | 第38-39页 |
| 3.2.2 二氧化硅颗粒粒径分布与分级精度 | 第39-40页 |
| 3.3 二氧化硅的扩孔实验及影响因素 | 第40-43页 |
| 3.3.1 扩孔溶剂对二氧化硅孔容的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 扩孔温度对二氧化硅孔容的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 二氧化硅消光剂的改性实验 | 第45-59页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 改性剂与改性方法选择 | 第45-47页 |
| 4.3 二氧化硅改性条件优化 | 第47-53页 |
| 4.3.1 改性剂用量对二氧化硅改性效果的影响 | 第48-49页 |
| 4.3.2 改性操作温度对二氧化硅改性效果的影响 | 第49页 |
| 4.3.3 改性操作时间对二氧化硅改性效果的影响 | 第49-50页 |
| 4.3.4 优化条件下制备二氧化硅 | 第50-53页 |
| 4.4 微分散反应器原位改性制备二氧化硅 | 第53-58页 |
| 4.4.1 微分散反应器制备的二氧化硅结构表征 | 第53-55页 |
| 4.4.2 主要操作条件对微分散反应器制备的二氧化硅性能的影响 | 第55-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 二氧化硅消光剂在涂料中的消光效果测试实验 | 第59-65页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 样漆制备与测试方法 | 第59-60页 |
| 5.3 二氧化硅消光剂在涂料漆膜中的分布状态及影响 | 第60-63页 |
| 5.3.1 二氧化硅消光剂对漆膜表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| 5.3.2 二氧化硅消光剂对涂料粘度的影响 | 第62-63页 |
| 5.3.3 二氧化硅消光剂对漆膜光泽度的影响 | 第63页 |
| 5.4 二氧化硅消光剂在涂料中的贮存稳定性测试 | 第63-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 结论 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第73-75页 |
| 作者及导师简介 | 第75-77页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第77-78页 |