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ZnO-TCO薄膜的制备及掺杂性能的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第一章 引言第11-18页
    1.1 ZnO的结构和性能第11-14页
        1.1.1 ZnO的晶体结构第11-13页
        1.1.2 ZnO的能带第13-14页
        1.1.3 ZnO的电学和光学性质第14页
    1.2 本论文的研究背景及内容第14-18页
        1.2.1 本论文的研究背景第14-15页
        1.2.2 日前ZnO-TCO存在的问题第15页
        1.2.3 本课题的提出第15-18页
第二章 ZnO-TCO薄膜的制备方法及表征手段第18-28页
    2.1 ZnO-TCO制备方法第18-20页
        2.1.1 磁控溅射法第18-19页
        2.1.2 溶胶凝胶法第19页
        2.1.3 化学气相沉积法第19-20页
    2.2 ZnO-TCO薄膜的表征方法第20-28页
        2.2.1 X射线衍射(XRD)第20-21页
        2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)第21-22页
        2.2.3 紫外-可见(UV-Vis)分光光度计第22页
        2.2.4 膜厚的测量第22-25页
        2.2.5 薄膜的电学测量第25-26页
        2.2.6 光致发光光谱(PL)第26页
        2.2.7 霍尔效应测试第26-27页
        2.2.8 红外吸收光谱测试第27-28页
第三章 射频磁控溅射制备ZnO:W-TCO薄膜第28-45页
    3.1 射频磁控溅射实验第28-29页
        3.1.1 射频磁控溅射设备介绍第28-29页
        3.1.2 衬底的清洗第29页
    3.2 样品的制备及表征方法第29-30页
    3.3 溅射功率调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜的影响第30-35页
        3.3.1 微观结构分析第30-32页
        3.3.2 表面形貌分析第32-33页
        3.3.3 室温光致发光分析第33-34页
        3.3.4 光学性能分析第34-35页
        3.3.5 电学性能分析第35页
    3.4 衬底温度调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜影响第35-39页
        3.4.1 微观结构分析第36-37页
        3.4.2 室温光致发光分析第37-38页
        3.4.3 光学性能分析第38-39页
        3.4.4 电学性能分析第39页
    3.5 多因素调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜的影响第39-44页
        3.5.1 微观结构分析第40-41页
        3.5.2 室温光致发光分析第41-42页
        3.5.3 光学性能分析第42-43页
        3.5.4 电学性能分析第43-44页
    3.6 本章小结第44-45页
第四章 溶胶凝胶法制备掺杂ZnO薄膜第45-59页
    4.1 溶胶凝胶实验工艺第45-47页
    4.2 Na-Mg共掺对ZnO薄膜的影响第47-51页
        4.2.1 微观结构分析第47-49页
        4.2.2 表面形貌分析第49页
        4.2.3 光学性能分析第49-51页
    4.3 不同旋涂层数对Mg-Sn共掺ZnO薄膜的影响第51-58页
        4.3.1 微观结构分析第51-53页
        4.3.2 表面形貌分析第53-54页
        4.3.3 光学性能分析第54页
        4.3.4 室温光致发光分析第54-57页
        4.3.5 傅里叶红外吸收FT-IR分析第57页
        4.3.6 电学性能分析第57-58页
    4.4 本章小结第58-59页
第五章 总结第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-64页
附录: 硕士期间的科研成果及获得荣誉第64页

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