摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 引言 | 第11-18页 |
1.1 ZnO的结构和性能 | 第11-14页 |
1.1.1 ZnO的晶体结构 | 第11-13页 |
1.1.2 ZnO的能带 | 第13-14页 |
1.1.3 ZnO的电学和光学性质 | 第14页 |
1.2 本论文的研究背景及内容 | 第14-18页 |
1.2.1 本论文的研究背景 | 第14-15页 |
1.2.2 日前ZnO-TCO存在的问题 | 第15页 |
1.2.3 本课题的提出 | 第15-18页 |
第二章 ZnO-TCO薄膜的制备方法及表征手段 | 第18-28页 |
2.1 ZnO-TCO制备方法 | 第18-20页 |
2.1.1 磁控溅射法 | 第18-19页 |
2.1.2 溶胶凝胶法 | 第19页 |
2.1.3 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
2.2 ZnO-TCO薄膜的表征方法 | 第20-28页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
2.2.3 紫外-可见(UV-Vis)分光光度计 | 第22页 |
2.2.4 膜厚的测量 | 第22-25页 |
2.2.5 薄膜的电学测量 | 第25-26页 |
2.2.6 光致发光光谱(PL) | 第26页 |
2.2.7 霍尔效应测试 | 第26-27页 |
2.2.8 红外吸收光谱测试 | 第27-28页 |
第三章 射频磁控溅射制备ZnO:W-TCO薄膜 | 第28-45页 |
3.1 射频磁控溅射实验 | 第28-29页 |
3.1.1 射频磁控溅射设备介绍 | 第28-29页 |
3.1.2 衬底的清洗 | 第29页 |
3.2 样品的制备及表征方法 | 第29-30页 |
3.3 溅射功率调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜的影响 | 第30-35页 |
3.3.1 微观结构分析 | 第30-32页 |
3.3.2 表面形貌分析 | 第32-33页 |
3.3.3 室温光致发光分析 | 第33-34页 |
3.3.4 光学性能分析 | 第34-35页 |
3.3.5 电学性能分析 | 第35页 |
3.4 衬底温度调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜影响 | 第35-39页 |
3.4.1 微观结构分析 | 第36-37页 |
3.4.2 室温光致发光分析 | 第37-38页 |
3.4.3 光学性能分析 | 第38-39页 |
3.4.4 电学性能分析 | 第39页 |
3.5 多因素调制掺杂对ZnO:W-TCO薄膜的影响 | 第39-44页 |
3.5.1 微观结构分析 | 第40-41页 |
3.5.2 室温光致发光分析 | 第41-42页 |
3.5.3 光学性能分析 | 第42-43页 |
3.5.4 电学性能分析 | 第43-44页 |
3.6 本章小结 | 第44-45页 |
第四章 溶胶凝胶法制备掺杂ZnO薄膜 | 第45-59页 |
4.1 溶胶凝胶实验工艺 | 第45-47页 |
4.2 Na-Mg共掺对ZnO薄膜的影响 | 第47-51页 |
4.2.1 微观结构分析 | 第47-49页 |
4.2.2 表面形貌分析 | 第49页 |
4.2.3 光学性能分析 | 第49-51页 |
4.3 不同旋涂层数对Mg-Sn共掺ZnO薄膜的影响 | 第51-58页 |
4.3.1 微观结构分析 | 第51-53页 |
4.3.2 表面形貌分析 | 第53-54页 |
4.3.3 光学性能分析 | 第54页 |
4.3.4 室温光致发光分析 | 第54-57页 |
4.3.5 傅里叶红外吸收FT-IR分析 | 第57页 |
4.3.6 电学性能分析 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 总结 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
附录: 硕士期间的科研成果及获得荣誉 | 第64页 |