激光重熔工艺参数对喷涂Fe基Ni/WC涂层微观缺陷的抑制机制研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 课题研究的背景和意义 | 第10-11页 |
1.2 课题来源 | 第11页 |
1.3 热喷涂技术 | 第11-12页 |
1.3.1 等离子喷涂技术 | 第11-12页 |
1.3.2 等离子喷涂存在的优点和不足 | 第12页 |
1.4 激光表面改性技术 | 第12-16页 |
1.4.1 激光重熔技术原理 | 第12-13页 |
1.4.2 激光重熔工艺特点 | 第13-14页 |
1.4.3 激光工艺参数对复合涂层质量影响 | 第14-16页 |
1.5 激光重熔层微观缺陷的国内外研究现状 | 第16-19页 |
1.5.1 激光重熔层微观缺陷产生的研究现状 | 第16-17页 |
1.5.2 激光重熔层微观缺陷消除的研究现状 | 第17-19页 |
1.6 激光重熔有限元模拟的研究现状 | 第19-20页 |
1.7 研究的主要内容 | 第20-21页 |
第二章 实验材料、设备及方法 | 第21-28页 |
2.1 实验材料 | 第21-22页 |
2.1.1 基体材料的选择 | 第21-22页 |
2.1.2 涂层材料的选择 | 第22页 |
2.2 实验设备及过程 | 第22-24页 |
2.2.1 等离子喷涂设备 | 第22-23页 |
2.2.2 激光重熔设备 | 第23-24页 |
2.3 组织与性能测试 | 第24-27页 |
2.3.1 微观组织 | 第24-25页 |
2.3.2 孔隙率测定 | 第25-26页 |
2.3.3 显微硬度 | 第26页 |
2.3.4 二次枝晶间距 | 第26-27页 |
2.4 文章小结 | 第27-28页 |
第三章 基于ANSYS的激光重熔温度场有限元分析 | 第28-44页 |
3.1 激光重熔温度场的热分析理论 | 第28-30页 |
3.2 激光重熔有限元模型的建立 | 第30-34页 |
3.2.1 模型建立及网格划分 | 第30-31页 |
3.2.2 激光热源的确定 | 第31-32页 |
3.2.3 材料热物性参数 | 第32-33页 |
3.2.4 工艺参数的设置 | 第33-34页 |
3.3 温度场分布 | 第34-35页 |
3.4 激光功率对温度场的影响 | 第35-39页 |
3.4.1 同一时刻的温度场分析 | 第35-37页 |
3.4.2 不同节点的温度场分析 | 第37-38页 |
3.4.3 实验验证 | 第38-39页 |
3.5 扫描速度对温度场的影响 | 第39-43页 |
3.5.1 同一时刻的温度场分析 | 第39-40页 |
3.5.2 不同节点的温度场分析 | 第40-42页 |
3.5.3 实验验证 | 第42-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 激光重熔层工艺参数优化的界面行为研究 | 第44-61页 |
4.1 等离子喷涂的微观形貌 | 第44-45页 |
4.2 激光功率对重熔层界面微观组织及性能的影响 | 第45-52页 |
4.2.1 微观形貌 | 第45-47页 |
4.2.2 物相分析 | 第47-48页 |
4.2.3 界面元素分布 | 第48-50页 |
4.2.4 孔隙率分析 | 第50-51页 |
4.2.5 显微硬度分析 | 第51-52页 |
4.3 扫描速度对重熔层界面微观组织及性能的影响 | 第52-60页 |
4.3.1 微观形貌 | 第52-54页 |
4.3.2 物相分析 | 第54-55页 |
4.3.3 界面元素分布 | 第55-58页 |
4.3.4 枝晶生长行为 | 第58-59页 |
4.3.5 显微硬度分析 | 第59-60页 |
4.4 本章小结 | 第60-61页 |
第五章 基于响应曲面法的重熔层孔隙率工艺参数优化 | 第61-68页 |
5.1 响应曲面方法概述 | 第61-62页 |
5.1.1 响应曲面法的特点 | 第61-62页 |
5.1.2 响应曲面法的分类 | 第62页 |
5.2 试验设计与分析 | 第62-67页 |
5.2.1 显著性分析与响应方程的建立 | 第62-64页 |
5.2.2 孔隙率的响应曲面 | 第64-66页 |
5.2.3 模型最优预测 | 第66-67页 |
5.3 本章小结 | 第67-68页 |
第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
6.1 主要研究结论 | 第68-69页 |
6.2 展望 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第75-76页 |