气体水合物晶体生长的数值模拟
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-17页 |
1.2.1 实验研究 | 第11-12页 |
1.2.2 仿真模拟 | 第12-14页 |
1.2.3 相场法模拟 | 第14-17页 |
1.3 研究的主要内容 | 第17-19页 |
第二章 相场理论 | 第19-25页 |
2.1 朗道理论与金兹堡-朗道理论 | 第19-21页 |
2.1.1 朗道理论的简单表述 | 第19-20页 |
2.1.2 金兹堡-朗道相变理论 | 第20-21页 |
2.2 界面模型 | 第21-24页 |
2.2.1 尖锐界面模型 | 第21-23页 |
2.2.2 扩散界面模型 | 第23-24页 |
2.3 本章小结 | 第24-25页 |
第三章 相场模型的建立 | 第25-34页 |
3.1 基本原理 | 第25-27页 |
3.2 CO2水合物相场模型的建立 | 第27-30页 |
3.3 各向异性 | 第30-31页 |
3.4 扰动 | 第31页 |
3.5 相场模型参数 | 第31-33页 |
3.6 本章小结 | 第33-34页 |
第四章 相场模型的数值求解 | 第34-47页 |
4.1 相场模型求解方法 | 第34-35页 |
4.2 相场模型的离散求解 | 第35-41页 |
4.2.1 相场控制方程的离散 | 第36-37页 |
4.2.2 溶质场控制方程的离散 | 第37-38页 |
4.2.3 温度场控制方程的离散 | 第38-41页 |
4.2.4 稳定性条件 | 第41页 |
4.3 初始条件和边界条件 | 第41-43页 |
4.4 编程实现和模拟结果可视化 | 第43-46页 |
4.4.1 程序流程 | 第43页 |
4.4.2 程序优化 | 第43-44页 |
4.4.3 特征数据的获取 | 第44页 |
4.4.4 模拟结果可视化 | 第44-46页 |
4.5 本章小结 | 第46-47页 |
第五章 模拟结果与分析 | 第47-68页 |
5.1 扰动对晶体生长的影响 | 第47-53页 |
5.1.1 扰动对枝晶形貌的影响 | 第47-50页 |
5.1.2 不同扰动系数下的溶质场分布规律 | 第50-53页 |
5.1.3 不同扰动系数下的温度场分布规律 | 第53页 |
5.2 过冷度对晶体生长的影响 | 第53-59页 |
5.2.1 过冷度对枝晶尖端生长速度的影响 | 第54-55页 |
5.2.2 过冷度对枝晶形貌的影响 | 第55-57页 |
5.2.3 不同过冷度下的温度场分布规律 | 第57-58页 |
5.2.4 不同过冷度下的溶质场分布规律 | 第58-59页 |
5.3 各向异性系数对晶体生长的影响 | 第59-65页 |
5.3.1 各向异性系数对枝晶形貌的影响 | 第59-62页 |
5.3.2 不同各向异性系数下的温度场分布规律 | 第62-63页 |
5.3.3 不同各向异性系数下的溶质场分布规律 | 第63-65页 |
5.4 界面厚度参数对晶体生长的影响 | 第65-66页 |
5.5 本章小结 | 第66-68页 |
第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
6.1 结论 | 第68页 |
6.2 展望 | 第68-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
附录 | 第77-79页 |
作者简介 | 第79页 |